4. ConclusionsIn this work, two dif

4. Conclusions
In this work, two different sensors combining retarding field analyzer and a QCM were presented. A standard two grid g-QCM was used for measurement of non-reactive sputtering of Ni and Ti. A gridless design suitable for analysis of low sputtering rate materials was used for characterization of reactive sputtering of Ti in an Ar/O2 atmosphere.

Measurements with the g-QCM analyzer showed an ionized fraction of up to 50% for Ni. No influence of the on-time was observed in this case. Somewhat higher values, exceeding 60%, were measured for Ti. In this case, there was a pronounced effect of the on-time with shorter on-time leading to higher ionized fraction at the same deposition rate.

In reactive sputtering of Ti, a substantially higher ionized fraction was observed in the oxide mode as compared to the metal mode. Already at lower values of the peak power, there was a significant fraction of Ti ions in the oxide mode. Finally, a strong effect of the distance from the sputtering target on the ionization fraction was observed.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

4
ข้อสรุปในงานนี้สองเซ็นเซอร์ที่แตกต่างกันรวมหน่วงการวิเคราะห์ข้อมูลและ qcm มีการนำเสนอ สองมาตรฐานตารางกรัม-qcm ถูกนำมาใช้สำหรับการวัดของสปัตเตอร์ที่ไม่ทำปฏิกิริยาของพรรณีและทิ gridless ออกแบบที่เหมาะสมสำหรับการวิเคราะห์ของว​​ัสดุที่อัตราการสปัตเตอร์ต่ำที่ใช้สำหรับลักษณะของสปัตเตอร์ปฏิกิริยาของ TI ในบรรยากาศ ar/o2.

วัดที่มีการวิเคราะห์กรัม-qcm พบเศษแตกตัวเป็นไอออนได้ถึง 50% พรรณี อิทธิพลของเวลาที่ไม่ได้รับการตั้งข้อสังเกตในกรณีนี้ ค่าค่อนข้างสูงเกิน 60% ถูกวัด Ti ในกรณีนี้มีผลเด่นชัดของเวลาที่สั้นกว่าเวลาที่นำไปสู่​​การแตกตัวเป็นไอออนส่วนในอัตราที่สูงกว่าการสะสมเหมือนกัน.

ในสปัตเตอร์ปฏิกิริยาของ Ti,เศษแตกตัวเป็นไอออนสูงขึ้นอย่างมากเป็นที่สังเกตในโหมดออกไซด์เมื่อเทียบกับโหมดโลหะ แล้วที่ค่าที่ต่ำกว่าของอำนาจสูงสุดมีส่วนอย่างมีนัยสำคัญของไอออนทิในโหมดออกไซด์ ในที่สุดผลกระทบที่แข็งแกร่งของระยะห่างจากเป้าหมายสปัตเตอร์ไอออนไนซ์ในส่วนที่ถูกตั้งข้อสังเกต

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

4. บทสรุป
งานนี้ เซนเซอร์ต่าง ๆ สองที่รวมฟิลด์ retarding วิเคราะห์และ QCM ถูกนำเสนอ QCM-g ที่กริดสองมาตรฐานที่ใช้สำหรับวัดพ่นไม่ใช่ปฏิกิริยา Ni และตี้ ใช้สำหรับคุณสมบัติของปฏิกิริยาพ่นของตี้ในบรรยากาศ Ar/O2 แบบ gridless เหมาะสำหรับการวิเคราะห์การผลิตอัตราต่ำสุดที่ sputtering

ความวิเคราะห์ g QCM แสดงเศษส่วนการ ionized ถึง 50% สำหรับ Ni ไม่มีอิทธิพลของการเวลาถูกตรวจสอบในกรณีนี้ มีวัดค่าค่อนข้างสูง เกิน 60% สำหรับตี้ ในกรณีนี้ มีผลการออกเสียงของการเวลากับสั้นเวลานำเศษ ionized สูงในเดียวกันสะสมอัตราการ

ในปฏิกิริยาพ่นของตี้ เศษส่วน ionized สูงมากถูกพบในโหมดออกไซด์โดยเปรียบเทียบกับโหมดโลหะ แล้วที่ค่าต่ำของอำนาจสูงสุด มีส่วนสำคัญของตี้กันในโหมดออกไซด์ ในที่สุด ความแข็งแรงผลของระยะห่างจากเป้าหมาย sputtering เศษ ionization ถูกตรวจสอบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

4 . บทสรุป
ซึ่งจะช่วยในการทำงานทั้งสองนี้เซนเซอร์รุ่นต่างๆประกอบด้วยตัววิเคราะห์ความสมบูรณ์และ qcm ฟิลด์ใดๆนอกเสียจากยิ่งทำได้นำเสนอ. มาตรฐานสองเส้นกริด G - qcm ได้ถูกใช้สำหรับการวัดไม่ใช่ - เชิงรับเพื่อละล่ำละลักของนิการากัวและหมากผู้หมากเมีย การออกแบบ gridless ที่เหมาะสำหรับการวิเคราะห์อัตราละล่ำละลักต่ำใช้สำหรับแสดงลักษณะของบรรยากาศละล่ำละลักของหมากผู้หมากเมียในอาร์เจนตินา/ O 2 ที่สร้างสรรค์ในเชิงบวก.

การวัดพร้อมด้วยตัววิเคราะห์ความสมบูรณ์ G - qcm แสดงให้เห็นส่วนที่มีประจุไอออนเพื่อคืนได้ถึง 50% สำหรับ NI ไม่มีอิทธิพลในเวลาที่พบว่าในกรณีนี้ ค่าค่อนข้างจะสูงขึ้นเกิน 60% เป็นวัดหมากผู้หมากเมีย ในกรณีนี้มีผลชัดเจนขึ้นที่ในเวลาที่มีน้อยลงในช่วงเวลาที่นำไปสู่ส่วนที่มีประจุไอออนเพื่อคืนสูงกว่าอัตราดอกเบี้ยคำให้การเหมือนกับที่.

ในเชิงรับเพื่อละล่ำละลักของหมากผู้หมากเมียส่วนสูงที่มีประจุไอออนเพื่อคืนพบว่าอยู่ในโหมดออกไซด์เมื่อเทียบกับโหมดโลหะ แล้วที่ค่าต่ำกว่าของอำนาจสูงสุดที่มีส่วนสำคัญของไอออนช่วยปรับหมากผู้หมากเมียอยู่ในโหมดออกไซด์ สุดท้ายมีผลในระยะห่างจากเป้าหมายละล่ำละลักที่อยู่บนเศษไอออนไนเซชันที่พบว่า