The polished sections for microstru

The polished sections for microstructural observations were prepared using SiC paper up to a grit number of 1200,polished using first an Al2O3 slurry and then colloidal silica. Themicrostructure was observed in the unetched condition using a light opticalmicroscope(OM)and a scanning electronmicroscope(SEM), coupled with energy-dispersive X-ray spectroscopy(EDS).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ส่วนขัดสำหรับการสังเกตจุลภาควจัดใช้กระดาษ SiC ได้ถึง 1200 ขัดใช้แรกสารละลาย Al2O3 และ colloidal แล้วซิลิกาจำนวนกรวด Themicrostructure พบว่า ในสภาพ unetched ใช้ opticalmicroscope มีแสง (OM) และ electronmicroscope(SEM) ในการสแกน ควบคู่ไปกับพลังงาน dispersive X-ray spectroscopy(EDS)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ส่วนขัดสังเกตจุลภาคถูกเตรียมใช้กระดาษ SiC ถึงจำนวนกรวด 1200 ขัดโดยใช้สารละลายแรก Al2O3 แล้วคอลลอยด์ซิลิกา Themicrostructure ถูกพบในสภาพที่ unetched ใช้ opticalmicroscope แสง (OM) และสแกน electronmicroscope (SEM) ควบคู่ไปกับการประหยัดพลังงานกระจาย X-ray สเปกโทรสโก (EDS)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ส่วนขัดสำหรับการสังเกตโครงสร้างจุลภาคเตรียมใช้ SIC กระดาษถึงหมายเลขมานะ 1200 ขัด Al2O3 โดยใช้สารละลายและคอลลอยด์แรกเป็นซิลิกา themicrostructure ถูกพบในสภาพ unetched ใช้ opticalmicroscope แสง ( OM ) และ electronmicroscope สแกน ( SEM ) ควบคู่กับพลังงานรังสีเอกซ์กระจายตัวสเปกโทรสโกปี ( EDS )