PROBLEMS :Thin Film deposition thro

PROBLEMS :
Thin Film deposition throughput limited to 2-3 microns / min which is not
cost effective
Higher throughput with good quality opto-electronic properties required
Photon trapping structures , Passivation and Cheap Substrate required
for lowering the cost

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ปัญหา:บางปริมาณสะสมฟิล์มจำกัดไมครอน 2-3 นาทีซึ่งไม่คุ้มค่าอัตราความเร็วสูง ด้วยคุณสมบัติออปโต้อิเล็กทรอนิกส์คุณภาพดีที่ต้องการโครงสร้างดักโฟตอน ทู่และพื้นผิวที่ถูกต้องสำหรับการลดต้นทุน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ปัญหา:
บางผ่านภาพยนตร์ทับถม จำกัด 2-3 ไมครอน / นาทีซึ่งไม่
เสียค่าใช้จ่ายที่มีประสิทธิภาพ
throughput สูงที่มีคุณสมบัติออปโตอิเล็กทรอนิกส์ที่มีคุณภาพที่ดีต้อง
Photon ดักโครงสร้าง Passivation และพื้นผิวถูกต้อง
สำหรับการลดค่าใช้จ่าย