The potentialinfluence on the oxida

The potential
influence on the oxidation rate may be related to many factors, such
as the charge transfer step, adsorption of ions, chemical/physical structure
of the oxidised layer formed or oxidation of various crystallographic
planes of a polycrystalline surface [3,4,6,12]. Apparently constant
thickness of the oxidised layer obtained for long oxidation times [5]
may suggest existence of a limiting thickness of the oxide/hydroxide
or a very lowrate of the oxidation processwhich decreaseswith the oxidation
progress

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ที่มีศักยภาพมีอิทธิพลต่ออัตราการเกิดออกซิเดชันอาจจะเกี่ยวข้องกับปัจจัยหลายอย่างเช่นเป็นค่าใช้จ่ายในการโอนเงินขั้นตอนการดูดซับไอออนของสารเคมี/ โครงสร้างทางกายภาพของชั้นเหลี่ยมที่เกิดขึ้นหรือการเกิดออกซิเดชันของcrystallographic ต่างๆระนาบของพื้นผิวpolycrystalline [3,4,6 12] เห็นได้ชัดว่าคงความหนาของชั้นเหลี่ยมที่ได้รับสำหรับเวลาออกซิเดชั่ยาว [5] อาจแนะนำการดำรงอยู่ของความหนา จำกัด ออกไซด์ / ไฮดรอกไซหรือlowrate มากของการเกิดออกซิเดชัน processwhich decreaseswith ออกซิเดชันความคืบหน้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อิทธิพลที่มีศักยภาพ
บนเคลือบ อาจเกี่ยวข้องกับปัจจัยหลายอย่าง เช่น
เป็นค่าธรรมเนียมการโอนขั้นตอนการดูดซับไอออน , เคมี / โครงสร้างทางกายภาพของชั้นมีหมด

หรือออกซิเดชันของเครื่องบินทางต่าง ๆของพื้นผิว [ polycrystalline 3,4,6,12 ] เห็นได้ชัดว่าคงที่
ความหนาของชั้นหมดได้สำหรับเวลานาน [ 5 ]
ออกซิเดชันแนะนำการดำรงอยู่ของการจํากัดความหนาของออกไซด์ / โซดาไฟ
หรือ lowrate มากของกระบวนการออกซิเดชัน ออกซิเดชัน decreaseswith
ความคืบหน้า