Veldeman et al. (1999) studied the

Veldeman et al. (1999) studied the influence of magnetron configuration on CoCr films sputtered on flexible substrates for different pressures (10-65 mTorr).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Veldeman et al. (1999) ศึกษาอิทธิพลของโครงแบบ magnetron บนฟิล์ม CoCr sputtered บนพื้นผิวมีความยืดหยุ่นสำหรับความดันแตกต่างกัน (10-65 mTorr)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Veldeman และคณะ (1999) ศึกษาอิทธิพลของการกำหนดค่าแมกในภาพยนตร์ Cocr พ่นบนพื้นผิวมีความยืดหยุ่นสำหรับแรงกดดันที่แตกต่างกัน (10-65 mTorr)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

veldeman et al . ( 2542 ) ได้ศึกษาถึงอิทธิพลของโลหะ การตั้งค่าใน cocr ภาพยนตร์ sputtered บนพื้นผิวยืดหยุ่นสำหรับแรงกดดันต่าง ๆ ( 10-65 mtorr )