Figure 4. Microstructure quenched a

Figure 4. Microstructure quenched after the first (and before the
second) recalescence with DT = 63 K: (a) in the middle region of the
sample (etched with Oberhoffer’s reagent) and (b) in the edge region of
the sample (etched with Nital).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปที่ 4 ต่อโครงสร้างจุลภาค quenched หลังแรก (และก่อนrecalescence สอง) กับ DT = 63 K: (a) ในภูมิภาคกลางของการตัวอย่าง (สลัก ด้วยรีเอเจนต์ของ Oberhoffer) และ (b) ในพื้นที่ขอบของตัวอย่าง (สลัก ด้วย Nital)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปที่ 4 จุลภาคดับหลังจากครั้งแรก (และก่อนที่
สอง) recalescence กับ DT = 63 K (ก) ในภูมิภาคตอนกลางของ
กลุ่มตัวอย่าง (แกะสลักด้วยน้ำยา Oberhoffer) และ (ข) ในภูมิภาคขอบของ
กลุ่มตัวอย่าง (แกะสลัก กับ Nital)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 4 โครงสร้างจุลภาคดับหลังแรก ( และก่อน
2 ) recalescence กับ DT = 63 K : ( ) ในภูมิภาคกลางของ
ตัวอย่าง ( แกะสลักด้วย oberhoffer เป็นรีเอเจนต์ ) และ ( ข ) ในขอบเขตของ
ตัวอย่าง ( แกะสลักด้วย nital )