In this study, it has been reported

In this study, it has been reported different surface morphologies of MeP-Si irradiated by picosecond laser beam at different
fluences and number of pulses. At low fluence regime, the formation of nanoparticles based LIPSS is observed for a high number of pulses from a continuous organization of random SiOx nanoparticle distribution. The period of these LIPSS is close to the wavelength 266 nm. In addition, the cross section SEM images have shown the surface modulation phenomenon including Nps that seem to be responsible for LIPSS formation as well as the liquid phase in the vicinity of the LIPSS area.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในการศึกษานี้ มีรายงานต่าง ๆ morphologies ที่พื้นผิวในงานฉายรังสี โดย picosecond ลำแสงเลเซอร์ที่แตกต่างกันได้อีกด้วยและจำนวนพัลส์ ที่ต่ำ fluence ระบอบการปกครอง การก่อตัวของเก็บกัก LIPSS ตามเป็นที่สังเกตสำหรับตัวเลขที่สูงของพัลส์จากองค์กรอย่างต่อเนื่องของการสุ่มแจก nanoparticle สูง SiOx ระยะเวลาของ LIPSS เหล่านี้อยู่ใกล้กับความยาวคลื่น 266 nm นอกจากนี้ ภาพข้ามส่วน SEM ได้แสดงปรากฏการณ์ปรับพื้นผิวรวมทั้ง Nps ที่ดูเหมือนจะรับผิดชอบ LIPSS ก่อตัวเป็นเฟสของเหลวใกล้พื้นที่ LIPSS

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในการศึกษาครั้งนี้จะได้รับการรายงานรูปร่างลักษณะพื้นผิวที่แตกต่างกันของ MEP ศรีฉายลำแสงเลเซอร์ picosecond ที่แตกต่างกัน
fluences และจำนวนของพัลส์ ระบอบการปกครองที่ fluence ต่ำการก่อตัวของอนุภาคนาโน LIPSS ตามเป็นที่สังเกตสำหรับจำนวนสูงของพัลส์จากองค์กรอย่างต่อเนื่องของการสุ่มกระจายอนุภาคนาโน SiOx ระยะเวลาของการ LIPSS เหล่านี้อยู่ใกล้กับความยาวคลื่น 266 นาโนเมตร นอกจากนี้ในส่วนข้ามภาพ SEM ได้แสดงให้เห็นปรากฏการณ์เอฟเอ็มรวมทั้งพื้นผิว Nps ที่ดูเหมือนจะเป็นผู้รับผิดชอบในการก่อ LIPSS เช่นเดียวกับของเหลวในบริเวณใกล้เคียงพื้นที่ LIPSS ที่

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการศึกษานี้ ได้มีการรายงานที่แตกต่างกันลักษณะพื้นผิวของเมพศรีรังสีพิโควินาทีลำแสงเลเซอร์ที่แตกต่างกันfluences และจำนวนของพัลส์ . ในระบอบการปกครอง fluence ต่ำ , การก่อตัวของอนุภาคนาโนที่ใช้ lipss เป็นที่สังเกตสำหรับจำนวนสูงของพัลส์จากองค์กรอย่างต่อเนื่องของ siox สุ่มสำหรับการกระจาย ระยะเวลาของ lipss เหล่านี้ใกล้เคียงกับความยาวคลื่น 266 nm . นอกจากนี้ รูปตัด SEM ภาพแสดงพื้นผิวดูปรากฏการณ์ ได้แก่ กฟผ. ที่ดูเหมือนจะเป็นผู้รับผิดชอบในการสร้าง lipss เช่นเดียวกับเฟสของเหลวในบริเวณใกล้เคียงของ lipss บริเวณ