a high-power deep reactive-ion etch

a high-power deep
reactive-ion etch process with cooling breaks every 10 min

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ลึกที่กำลังแรงสูง ปฏิกิริยาของไอออนกัดกระบวนการหยุดพักทุก 10 นาทีด้วย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พลังงานสูงลึกปฏิกิริยาไอออนกระบวนการจำหลักที่มีตัวแบ่งการระบายความร้อนทุก 10 นาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปภาพลึก
ปฏิกิริยาไอออนแกะสลัก กระบวนการทำความเย็นพักทุก 10 นาที