AbstractIn this paper we investigat

Abstract
In this paper we investigated the annealing behavior of Ag nanoparticles in silica with and without defects. Silica samples with and without Ar ion pre-irradiation were implanted with Ag ions and then annealed at temperature from 300 to 850 °C. UV-VIS spectroscopy and TEM were used to characterize the optical absorbance property and size distribution of Ag nanoparticles, respectively. Optical absorbance results showed that the absorbance intensity of SPR peak from Ag nanoparticles in the sample with pre-irradiation was stronger than in the sample without pre-irradiation. During annealing, compared to the sample without pre-irradiation, the normalized absorbance intensity of SPR peak fluctuated in a smaller range with temperature for the sample with pre-irradiation. This indicated that defects produced by pre-irradiation prevented Ag nanoparticles from a rapid growth during annealing, namely had a stabilizing effect on Ag nanoparticles. However, in contrast to the sample without pre-irradiation, the SPR peak started to became broad and weak at a relative low temperature and fully disappeared after annealing at 850 °C for the sample with pre-irradiation. This indicated that defects could accelerate the decomposition of Ag nanoparticles at higher temperature.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

บทคัดย่อในเอกสารนี้ เราตรวจสอบลักษณะการทำงานหลอมเก็บกัก Ag ในซิลิกาที่มี และไม่ มีข้อบกพร่อง ตัวอย่างซิลิกาที่มี และไม่ มีการฉายรังสีก่อนไอออน Ar ฝัง ด้วยไอออน Ag แล้ว อบที่อุณหภูมิ 300 ถึง 850 องศาเซลเซียส UV-VIS สเปกโทรสโกและ TEM ถูกใช้เพื่อกำหนดลักษณะคุณสมบัติค่าแสง และขนาดของเก็บกัก Ag ตามลำดับ ค่าแสงผลลัพธ์แสดงให้เห็นว่า ค่าความเข้มของ SPR peak จาก Ag เก็บกักในตัวอย่างด้วยวิธีการฉายรังสีก่อนดีกว่าในตัวอย่างโดยไม่ต้องฉายรังสีก่อน ในระหว่างหลอม เมื่อเทียบกับตัวอย่างโดยไม่ต้องฉายรังสีก่อน มาตรฐานค่าความเข้มของ SPR ช่วงผันผวนในช่วงที่มีขนาดเล็กมีอุณหภูมิสำหรับตัวอย่างด้วยวิธีการฉายรังสีก่อน ซึ่งระบุว่า ผลิต โดยวิธีการฉายรังสีก่อนเก็บกัก Ag ป้องกันจากการเจริญเติบโตระหว่างการหลอม ข้อบกพร่องคือมีผลต่อบนเก็บกัก Ag อย่างไรก็ตาม ตรงข้ามกับตัวอย่างโดยไม่ต้องฉายรังสีก่อน SPR peak เริ่มกลายเป็นกว้าง และอ่อนแอที่อุณหภูมิต่ำญาติ และหายไปหลังจากการหลอมที่ 850 ° C สำหรับตัวอย่างด้วยวิธีการฉายรังสีก่อนอย่างเต็ม ซึ่งระบุว่า ข้อบกพร่องสามารถเร่งการสลายตัวของเก็บกัก Ag ที่อุณหภูมิสูง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

บทคัดย่อ
ในบทความนี้เราตรวจสอบพฤติกรรมการหลอมของอนุภาคนาโน AG ในซิลิกาที่มีและไม่มีข้อบกพร่อง ตัวอย่างซิลิกาที่มีและไม่มี Ar ไอออนก่อนการฉายรังสีที่ถูกปลูกฝังด้วย Ag ไอออนและอบที่อุณหภูมิ 300-850 องศาเซลเซียสแล้ว UV-VIS สเปกโทรสโกและ TEM ถูกนำมาใช้เพื่ออธิบายลักษณะแสงคุณสมบัติการดูดกลืนแสงและการกระจายขนาดของอนุภาคนาโน Ag ตามลำดับ ผลการดูดกลืนแสงออปติคอลแสดงให้เห็นว่าความเข้มของการดูดกลืนแสงของ SPR สูงสุดจากอนุภาคนาโน AG ในตัวอย่างด้วยก่อนการฉายรังสีได้ดีกว่าในตัวอย่างโดยไม่ต้องก่อนการฉายรังสี ในระหว่างการอบอ่อนเมื่อเทียบกับกลุ่มตัวอย่างโดยไม่ต้องฉายรังสีก่อนที่ความเข้มของการดูดกลืนแสงปกติ SPR สูงสุดมีความผันผวนในช่วงขนาดเล็กที่มีอุณหภูมิตัวอย่างด้วยก่อนการฉายรังสี แสดงให้เห็นว่าข้อบกพร่องที่ผลิตโดยก่อนการฉายรังสีป้องกันไม่ให้เกิดอนุภาคนาโน Ag จากการเติบโตอย่างรวดเร็วในระหว่างการอบคือมีผลการรักษาเสถียรภาพในอนุภาคนาโน Ag แต่ในทางตรงกันข้ามกับตัวอย่างโดยไม่ต้องก่อนการฉายรังสีซึ่งเป็นยอดเขา SPR เริ่มที่จะกลายเป็นวงกว้างและอ่อนแอที่อุณหภูมิต่ำญาติและหายไปอย่างเต็มที่หลังจากการอบที่ 850 องศาเซลเซียสเป็นตัวอย่างด้วยการฉายรังสีก่อน แสดงให้เห็นว่าข้อบกพร่องที่สามารถเร่งการสลายตัวของอนุภาคนาโน Ag ที่อุณหภูมิสูงขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

บทคัดย่อในบทความนี้เราได้ศึกษาพฤติกรรมของอนุภาคเงินขนาดนาโนในการอบซิลิกาที่มีและไม่มีข้อบกพร่อง สารตัวอย่างที่มีและไม่มี AR ไอออนก่อนการฉายรังสีถูกปลูกฝังด้วยไอออน Ag แล้วอบที่อุณหภูมิ 300 องศา จาก 850 สเปกโทรสโกปีแบบเหล็ก และใช้สำหรับวิเคราะห์สมบัติการดูดกลืนแสงและการกระจายขนาดของอนุภาคเงินขนาดนาโน ตามลำดับ ผลปรากฎว่า ค่าการดูดกลืนแสงความเข้มของโลกสูงสุดจากอนุภาคนาโน AG ในตัวอย่างก่อนการฉายรังสีที่แข็งแกร่งกว่าในตัวอย่างไม่มีก่อนการฉายรังสี ในระหว่างการอบ เทียบกับตัวอย่างโดยไม่ก่อนการฉายค่าการดูดกลืนแสงสูงสุดความเข้มของโลกผันผวนในช่วงขนาดเล็กที่มีอุณหภูมิตัวอย่างก่อนการฉายรังสี พบข้อบกพร่องที่ผลิตโดยก่อนการฉายรังสีป้องกันอนุภาคเงินขนาดนาโนจากการเติบโตอย่างรวดเร็วในการอบ คือ ได้มีผลต่อเสถียรภาพโดยอนุภาค อย่างไรก็ตาม ในทางตรงกันข้ามกับตัวอย่างโดยไม่ก่อนการฉายรังสี , สุพรรณบุรี พีคเริ่มกลายเป็นที่กว้างและอ่อนแอที่อุณหภูมิต่ำ และหายไปอย่างเต็มที่เมื่ออบอ่อนที่อุณหภูมิ 850 องศา C ตัวอย่างก่อนการฉายรังสี พบข้อบกพร่องสามารถเร่งการสลายตัวของอนุภาคเงินขนาดนาโนที่อุณหภูมิสูงกว่า