Atomic layer deposition (ALD) has b

Atomic layer deposition (ALD) has been used to prepare nano-structured cathode films for Li-ion batteries
of V2O5 from VO(thd)2 and ozone at 215
C. The resulting films were strongly textured and rough without
application of a template. The best electrochemical performance was observed for 10 nm nano-structured
V2O5, that could sustain discharge rates up to 960 C while maintaining 20% of the initial 1 C capacity. The
optimized cathode endured a discharge rate of 120 C for more than 1500 cycles while maintaining more
than 80% of capacity, proving the rare combination of both high discharge rates and long life time
simultaneously. The growth mechanism of the VO(thd)2 and ozone provides a highly textured surface
consisting of platelets of V2O5 providing a large contact area towards the electrolyte. The current V2O5
films show potential as cathodes in thin film micro batteries.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มีการใช้สะสมชั้นอะตอม (ALD) เพื่อเตรียมโครงสร้างนาโนแคโทดภาพยนตร์สำหรับ Li-ion แบตเตอรี่V2O5 จากโว (thd) 2 และโอโซนที่เซลเซียส 215 ภาพยนตร์เป็นผลลัพธ์ถูกพื้นผิว และหยาบโดยไม่ต้องขอแอพลิเคชันของแม่แบบ พบว่า ประสิทธิภาพของไฟฟ้าที่ดีที่สุดสำหรับ 10 nm โครงสร้างนาโนV2O5 ที่สามารถรักษาปล่อยราคาถึง 960 C ในขณะที่ 20% ของกำลังการผลิต 1 C เริ่มต้นรักษา การแคโทดสุดทนปล่อยอัตรา 120 C มากกว่า 1500 รอบในขณะที่รักษาเพิ่มเติมกว่า 80% ของกำลังการผลิต พิสูจน์ชุดหายากทั้งราคาจำหน่ายสูงและเวลานานพร้อมกันนี้ กลไกการเจริญเติบโตของ VO (thd) 2 และโอโซนให้พื้นผิวพื้นผิวสูงประกอบด้วยเกล็ดเลือด V2O5 ให้พื้นที่สัมผัสขนาดใหญ่ต่อกับอิเล็กโทรไลท์ V2O5 ปัจจุบันภาพยนตร์แสดงศักยภาพเป็น cathodes ในแบตเตอรี่ไมโครฟิล์มบาง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อะตอมสะสมชั้น (มรกต) ได้ถูกนำมาใช้เพื่อเตรียมความพร้อมนาโนโครงสร้างภาพยนตร์แคโทดสำหรับแบตเตอรี่ Li-ion
ของ V2O5 จาก VO (THD) 2 และโอโซนที่ 215 องศาเซลเซียส ภาพยนตร์ที่ส่งผลให้พื้นผิวที่ถูกขอและหยาบโดยไม่ต้อง
ประยุกต์ใช้แม่แบบ ประสิทธิภาพการทำงานที่ดีที่สุดไฟฟ้าพบว่า 10 นาโนเมตรนาโนโครงสร้าง
V2O5 ที่สามารถรักษาอัตราการปล่อยได้ถึง 960 องศาเซลเซียสในขณะที่รักษา 20% ของกำลังการผลิตเริ่มต้น 1 C
แคโทดที่ดีที่สุดทนอัตราการไหล 120 องศาเซลเซียสเป็นเวลามากกว่า 1500 รอบในขณะที่รักษามากขึ้น
กว่า 80% ของความจุพิสูจน์ชุดหายากของทั้งสองอัตราการปล่อยสูงและเวลาชีวิตยาว
พร้อมกัน กลไกการเจริญเติบโตของ VO (THD) 2 และโอโซนให้พื้นผิวพื้นผิวสูง
ประกอบด้วยเกล็ดเลือดของ V2O5 ให้พื้นที่ติดต่อขนาดใหญ่ที่มีต่ออิ V2O5 ปัจจุบัน
ภาพยนตร์แสดงให้เห็นศักยภาพใน cathodes ไมโครแบตเตอรี่ฟิล์มบาง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สะสมชั้นอะตอม ( ald ) ถูกใช้เพื่อเตรียมโครงสร้างนาโนฟิล์มสำหรับ Li - ion แบตเตอรี่แคโทดของ V2O5 จากหวอ ( THD ) 2 , 215 C ส่งผลให้พื้นผิวขรุขระโดยไม่ต้องขอและฟิล์มการใช้แม่แบบ งานไฟฟ้าที่ดีที่สุด 10 nm นาโนโครงสร้างพบว่าที่สามารถรักษาอัตราการ V2O5 ถึง 960 องศาเซลเซียส ในขณะที่การรักษา 20% ของความจุเริ่มต้นที่ 1 ค . ที่ทนจำหน่ายหลอดปรับอัตรา 120 C มากกว่า 1500 รอบในขณะที่การรักษาเพิ่มเติมกว่า 80% ของความจุ พิสูจน์การรวมกันที่หายากของทั้งสองสูงอัตราการระบายและเวลายาวนานพร้อมกัน การเจริญเติบโตกลไกของ VO ( THD ) 2 และโอโซนมีพื้นผิวที่มีพื้นผิวสูงจำนวนเกล็ดเลือดของ V2O5 ให้ติดต่อพื้นที่ขนาดใหญ่ที่มีอิเล็กโทรไลต์ มี V2O5 ในปัจจุบันภาพยนตร์แสดงศักยภาพในฐานะ cathodes ในไมโคร ฟิล์มบางแบตเตอรี่