The results of X-ray diffraction(XR

The results of X-ray diffraction(XRD)revealed a composite with high content of HA was fabricated at pH4.5, V¼20 V, and t¼15 min. The deposition mechanism at the initial and final times was significantly related to self-assembly of HA nanoparticles that chelated by cationicmacromolecularchainsandlocatedonBGmicroparticles,andCS-coatedparticulatesof
HA nanoparticles,respectively.Theresultsofpotentiodynamicpolarizationandelectrochemicalimpedancespectroscopystudiesdemonstrated
that theCS–BG–HA compositecoatingactsasabarrierlayerincorrectedsimulatedbody fluid (C-SBF).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ผลลัพธ์ของการเลี้ยวเบนของแสงเอ็กซเรย์ (XRD) เปิดเผยประกอบกับเนื้อหาที่สูงของ HA ถูกประดิษฐ์ที่ pH4.5, V¼20 V และ t¼15 นาที กลไกการสะสมเวลาเริ่มต้น และสุดท้ายได้อย่างมีนัยสำคัญที่เกี่ยวข้องกับประกอบด้วยตัวเองเก็บกักฮาที่ chelated โดย cationicmacromolecularchainsandlocatedonBGmicroparticles, andCS-coatedparticulatesofฮา เก็บกัก ตามลำดับ Theresultsofpotentiodynamicpolarizationandelectrochemicalimpedancespectroscopystudiesdemonstratedที่ของเหลว compositecoatingactsasabarrierlayerincorrectedsimulatedbody theCS – BG-HA (C-SBF)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ผลการเอ็กซ์เรย์เลนส์ (XRD) เปิดเผยคอมโพสิตที่มีเนื้อหาสูงของ HA ประดิษฐ์ที่ pH4.5, V¼20 V และt¼15นาที กลไกการสะสมในเวลาที่เริ่มต้นและสุดท้ายคือความสัมพันธ์กับตนเองประกอบของอนุภาคนาโน HA ที่คีโดย cationicmacromolecularchainsandlocatedonBGmicroparticles, andCS-coatedparticulatesof
HA
theCS-BG-HA compositecoatingactsasabarrierlayerincorrectedsimulatedbody ของเหลว (C-SBF)