X-ray photoelectron spectroscopy (X

X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is a surface-sensitive quantitative spectroscopic technique that measures the elemental composition at the parts per thousand range, empirical formula, chemical state and electronic state of the elements that exist within a material. XPS spectra are obtained by irradiating a material with a beam of X-rays while simultaneously measuring the kinetic energy and number of electrons that escape from the top 0 to 10 nm of the material being analyzed. XPS requires high vacuum (P ~ 10−8 millibar) or ultra-high vacuum (UHV; P < 10−9 millibar) conditions, although a current area of development is ambient-pressure XPS, in which samples are analyzed at pressures of a few tens of millibar.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

X-ray spectroscopy โฟโตอิเล็กตรอน (XPS) เป็นเทคนิคสเปกโทรสโกปริมาณพื้นผิวที่มีความไวที่วัดธาตุองค์ประกอบในส่วนต่อพันช่วงสูตรเชิงประจักษ์รัฐเคมีและรัฐอิเล็กทรอนิกส์ขององค์ประกอบที่มีอยู่ในวัสดุ สเปกตรัม XPS จะได้รับโดยการฉายรังสีวัสดุที่มีลำแสงของรังสีเอกซ์ในขณะเดียวกันวัดพลังงานจลน์และจำนวนอิเล็กตรอนที่หนีออกมาจากด้านบน 0-10 นาโนเมตรของวัสดุการวิเคราะห์ XPS ต้องสูญญากาศสูง (P ~ 10-8 มิลลิบาร์) หรือสูญญากาศสูงพิเศษ (UHV P <10-9 มิลลิบาร์) เงื่อนไขแม้ว่าพื้นที่ปัจจุบันของการพัฒนาเป็น XPS โดยรอบความดันซึ่งในกลุ่มตัวอย่างมีการวิเคราะห์ที่แรงกดดันจาก ไม่กี่สิบมิลลิบาร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เครื่อง X-ray photoelectron spectroscopy ( XPS ) เป็นเทคนิคเชิงปริมาณทางบนพื้นผิวที่ละเอียดอ่อนที่วัดธาตุองค์ประกอบที่หลากหลาย ส่วนที่ต่อพันสูตรเอมพิริคัลเคมี รัฐ และรัฐอิเล็กทรอนิกส์ขององค์ประกอบที่มีอยู่ในวัสดุXPS สเปกตรัมจะได้รับโดยการฉายรังสี วัสดุด้วยลำแสงรังสีเอกซ์ ขณะเดียวกันการวัดพลังงานจลน์ และจำนวนของอิเล็กตรอนที่หนีออกจากด้านบน 0 10 nm ของวัสดุที่ถูกวิเคราะห์ XPS ต้องสูญญากาศสูง ( p ~ 10 − 8 มิลลิบาร์ ) หรือสูญญากาศสูงพิเศษ ( uhv ; P < 10 − 9 มิลลิบาร์ ) เงื่อนไข แม้ว่าพื้นที่ปัจจุบันของการพัฒนาคือ XPS ความดันอุณหภูมิ ,ซึ่งในตัวอย่างวิเคราะห์ที่แรงกดดันจากไม่กี่สิบของมิลลิบาร์ .