In general, the particle shape is d

In general, the particle shape is determined by two factors, equilibrium and growth forms (Elwell & Scheel, 1975). The equilibrium form is the shape with the minimum surface free energy, and can be derived using the Wulff or γ plot. The Wulff plot is a polar diagram of the specific surface free energy, which is determined by the combination of solid and liquid materials. The equilibrium form is found by drawing all the planes normal to the radius vectors of the surface energy and taking the innermost envelop (Fig. 6(a)). A sharp cusp implies that a certain face has much lower free energy than other faces and the crystal will be facetted. The sharpness of the cusp in the γ plot relates to the roughness of the surfaces at the atomic scale. Figure 6(b) shows a part of the γ plot. Surface A has the lowest surface free energy of γA, and surface B is tilted by an angle θ and has a surface free energy of γB. The difference between γA and γB is the energy of the steps on the A surface (Fig. 6(c)). Therefore, a surface with a sharp cusp has high step energy; the density of steps on the surface with a well-developed facet is low.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ทั่วไป รูปร่างของอนุภาคจะถูกกำหนด โดยปัจจัย 2 สมดุลและเติบโตฟอร์ม (อินเตอร์เน็ต & Scheel, 1975) แบบสมดุลเป็นรูปทรงที่ มีพลังงานต่ำสุดผิวฟรี และสามารถมาใช้พล็อต Wulff หรือγ พล็อต Wulff คือ ไดอะแกรมโพลาร์ของเฉพาะผิวฟรีพลังงาน ซึ่งจะถูกกำหนด โดยการรวมกันของวัสดุของแข็ง และของเหลว พบแบบสมดุล โดยวาดรูปเครื่องบินทั้งหมดที่ปกติเวกเตอร์รัศมีพลังงานพื้นผิว และการ envelop ก้น (Fig. 6(a)) Cusp คมหมายถึงว่า ใบหน้ามีมากพลังงานฟรีกว่าหน้าอื่น ๆ และคริสตัลจะ facetted ความคมชัดของ cusp ในพล็อตγกับความหยาบของพื้นผิวในระดับอะตอม รูป 6(b) แสดงเป็นส่วนหนึ่งของพล็อตγ พื้นผิว A มีพลังงานอิสระผิวต่ำของ γA และพื้นผิว B ยืด โดยมุมθ และมีพลังงานอิสระผิวของ γB ความแตกต่างระหว่าง γA และ γB เป็นพลังงานขั้นตอนบนพื้นผิว A (Fig. 6(c)) ดังนั้น ผิว ด้วย cusp คมมีพลังงานขั้นสูง ความหนาแน่นของขั้นตอนบนพื้นผิวด้วยพได้ดีพัฒนามีน้อย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยทั่วไปรูปร่างของอนุภาคจะถูกกำหนดโดยสองปัจจัยสมดุลและรูปแบบการเจริญเติบโต (Elwell & Scheel, 1975) รูปแบบสมดุลเป็นรูปร่างที่มีพื้นผิวขั้นต่ำพลังงานและสามารถนำมาใช้ Wulff หรือพล็อตγ พล็อตวอล์ฟเป็นแผนภาพรูปแบบของพื้นผิวที่เฉพาะเจาะจงพลังงานฟรีซึ่งจะถูกกำหนดโดยการรวมกันของวัสดุที่เป็นของแข็งและของเหลว รูปแบบสมดุลพบโดยการวาดเครื่องบินทั้งหมดปกติเวกเตอร์รัศมีของพลังงานพื้นผิวและการซองสุด (รูปที่. 6 (ก)) cusp คมชัดแสดงให้เห็นว่าใบหน้าของบางอย่างมีมากต่ำกว่าพลังงานอื่น ๆ ที่ใบหน้าและคริสตัลจะ facetted ความคมชัดของ cusp ในพล็อตγเกี่ยวข้องกับความขรุขระของพื้นผิวในระดับอะตอม รูปที่ 6 (ข) แสดงให้เห็นส่วนหนึ่งของแผนγ พื้นผิวที่มีพื้นผิวพลังงานต่ำสุดของγAและพื้นผิว B เอียงโดยθมุมและมีพื้นผิวพลังงานฟรีγB ความแตกต่างระหว่างγAและγBเป็นพลังงานของขั้นตอนที่อยู่บนพื้นผิว (รูปที่. 6 (c)) ดังนั้นพื้นผิวที่มีความคมชัด cusp ขั้นตอนที่มีพลังงานสูง ความหนาแน่นของขั้นตอนที่อยู่บนพื้นผิวที่มีแง่ดีที่พัฒนาอยู่ในระดับต่ำ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยทั่วไปอนุภาครูปร่างจะถูกกำหนดโดยปัจจัยสอง แบบสมดุลและการเจริญเติบโต ( อิลเวล& scheel , 1975 ) แบบฟอร์ม สมดุล คือ รูปร่างที่มีพลังงานอิสระพื้นผิวน้อยที่สุด และสามารถได้รับการใช้ดาราหรือγแปลง พล็อต วูล์ฟเป็นแผนภาพขั้วของเฉพาะผิวพลังงานฟรี ซึ่งจะถูกกำหนดโดยการรวมกันของของแข็งและของเหลววัสดุแบบฟอร์มสมดุลพบโดยการวาดเครื่องบินทั้งหมดปกติรัศมีเวกเตอร์พื้นผิวของพลังงานและการข้างในซอง ( ภาพที่ 6 ( ) ) เป็นองค์การที่ใบหน้าคมแสดงถึงความรุนแรงได้ลดลงมากฟรีพลังงานมากกว่าใบหน้าอื่น ๆและผลึกจะ facetted . ความคมชัดขององค์การในγพล็อตที่เกี่ยวข้องกับความหยาบของพื้นผิวในระดับอะตอมรูปที่ 6 ( b ) แสดงให้เห็นว่าเป็นส่วนหนึ่งของγแปลง พื้นผิวที่มีพื้นผิวฟรีค่าพลังงานของγ A และ B โดยผิวเอียงเป็นมุมθและมีพื้นผิวฟรีพลังงานของγบี ความแตกต่างระหว่างγและγ B คือพลังงานของขั้นตอนบนพื้นผิว ( ภาพที่ 6 ( c ) ) ดังนั้นพื้นผิวด้วยโกฏิคมได้พลังงานขั้นสูง ความหนาแน่นของขั้นตอนบนพื้นผิวที่มีการพัฒนาด้านต่ำ