Simple cleaning is to the applicabi

Simple cleaning is to the applicability of three methods to clean and condition the surface of silicon wafers by an ultra-thin oxide layer.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ทำความสะอาดง่ายคือการยอมรับวิธีการสามวิธีการทำความสะอาดและสภาพพื้นผิวของซิลิคอนเวเฟอร์ โดยมีชั้นออกไซด์บางเฉียบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ทำความสะอาดง่ายคือการบังคับใช้ของสามวิธีในการทำความสะอาดและปรับสภาพพื้นผิวของซิลิคอนเวเฟอร์โดยชั้นออกไซด์บางเฉียบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ทำความสะอาดง่าย เพื่อหา 3 วิธี เพื่อความสะอาดและสภาพผิวของซิลิกอนเวเฟอร์ โดยมีชั้นออกไซด์ที่บางเฉียบ