Rietveld analysis (Fig. 2) was perf

Rietveld analysis (Fig. 2) was performed for HA700 powders. Pattern fitting was carried out between 5◦ and 150◦. The lower bar shown in Fig. 2 indicates the fitting deviation from the lower original diffraction pattern

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

วิเคราะห์ Rietveld (Fig. 2) ที่ดำเนินการสำหรับผง HA700 รูปแบบเหมาะสมถูกดำเนินระหว่าง 5◦ และ 150◦ แถบด้านล่างที่แสดงใน Fig. 2 บ่งชี้ความแตกต่างปรับจากรูปแบบการเลี้ยวเบนเดิมต่ำกว่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การวิเคราะห์ Rietveld (รูปที่ 2). ได้รับการดำเนินการสำหรับ HA700 ผง แบบที่เหมาะสมได้รับการดำเนินการระหว่าง5◦และ150◦ บาร์ที่ต่ำกว่าที่แสดงในรูป 2 แสดงให้เห็นถึงความเบี่ยงเบนที่เหมาะสมจากเลนส์แบบเดิมที่ต่ำกว่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การวิเคราะห์ ไรเ เวล ( รูปที่ 2 ) คือการใช้ผง ha700 . แบบแผนที่เหมาะสมดำเนินการระหว่าง 5 ◦และ 150 ◦ . ราคาที่แสดงในรูปที่ 2 แสดงแถบค่าเหมาะสมจากล่างเดิมรูปแบบการเลี้ยวเบน