As a well-developed industrial fabr

As a well-developed industrial fabricating method, magnetron sputtering technique has its distinct advantages for the large-scale production. In order to investigate the effect of buffer layer on the forma- tion and thermochromic performances of VO2 films, using RF magnetron sputtering method, we fabri- cated three kinds of buffer layers SiO2, TiO2 and SnO2 on soda lime float-glass. Then according to the reactive DC magnetron sputtering method, VO2 films were deposited. Due to the restriction of heat treat- ment temperature when using soda lime float-glass as substrates, dense rutile phase TiO2 cannot be formed, leading to the formation of vanadium oxide compounds containing Na ions. When using SnO2 as buffer layer, we found that relatively high pure VO2 can be deposited more easily. In addition, com- pared with the effect of SiO2 buffer layer, we observed an enhanced visible transparency, a decreased infrared emissivity, which should be mainly originated from the modified morphology and/or the hetero-structured VO2/SnO2 interface.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เป็นการพัฒนาอุตสาหกรรมผลิตวิธี เทคนิคสปัตเตอร์การผลิตกล่องจากกระดาษได้มากกว่าแตกต่างกันสำหรับการผลิตขนาดใหญ่ เพื่อตรวจสอบผลของชั้นบัฟเฟอร์การแสดง forma-ทางการค้าและ thermochromic ของ VO2 ฟิล์ม ใช้ RF ผลิตกล่องจากกระดาษวิธีสปัตเตอร์ เราผลิต fabri สามชั้นบัฟเฟอร์ SiO2, TiO2 และ SnO2 บนลอยแก้วโซดาไลม์ แล้ว ตามปฏิกิริยา DC ผลิตกล่องจากกระดาษสปัตเตอร์วิธีการ VO2 ภาพยนตร์มาฝาก เนื่องจากข้อจำกัดของความร้อนอุณหภูมิรักษาพยาบาลเมื่อใช้ลอยแก้วโซดาไลม์เป็นพื้นผิว rutile หนาแน่นระยะ TiO2 ไม่เกิดขึ้น นำไปสู่การก่อตัวของวาเนเดียมออกไซด์สารประกอบไอออนที่ประกอบด้วย Na เมื่อใช้ SnO2 เป็นชั้นบัฟเฟอร์ เราพบว่า VO2 บริสุทธิ์ค่อนข้างสูงสามารถฝากได้ง่ายขึ้น นอกจากนี้ com-บอดี้ของชั้นบัฟเฟอร์ SiO2 เราสังเกตการมองเห็นความโปร่งใส การลดอินฟราเรด emissivity ที่ควรส่วนใหญ่มาจากสัณฐานวิทยาแก้ไขหรืออินเทอร์เฟซ VO2/SnO2 hetero โครงสร้าง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เป็นวิธีการ Fabricating อุตสาหกรรมมีการพัฒนาเทคนิคแมกสปัตเตอร์มีข้อดีที่แตกต่างกันสำหรับการผลิตขนาดใหญ่ เพื่อศึกษาผลของชั้นบัฟเฟอร์ในการ forma- และการแสดงของภาพยนตร์ thermochromic VO2 โดยใช้วิธี RF แมกสปัตเตอร์เรา fabri- cated สามชนิดของ SiO2 ชั้นบัฟเฟอร์ TiO2 และ SnO2 ในมะนาวโซดาลอยแก้ว จากนั้นตามปฏิกิริยา DC วิธีแมกสปัตเตอร์ภาพยนตร์ VO2 ฝาก เนื่องจากข้อ จำกัด ของความร้อนที่อุณหภูมิลูออไรด์ ment เมื่อใช้มะนาวโซดาลอยกระจกเป็นพื้นผิว rutile หนาแน่นเฟส TiO2 ไม่สามารถเกิดขึ้นนำไปสู่​​การก่อตัวของสารออกไซด์วานาเดียมมีนาไอออน เมื่อใช้ SnO2 เป็นชั้นบัฟเฟอร์เราพบว่า VO2 บริสุทธิ์ค่อนข้างสูงสามารถฝากได้ง่ายขึ้น นอกจากนี้ไปเปรียบเทียบกับผลกระทบของชั้นบัฟเฟอร์ SiO2 เราสังเกตความโปร่งใสมองเห็นเพิ่มขึ้นลดลงการแผ่รังสีอินฟราเรดซึ่งควรจะเกิดขึ้นส่วนใหญ่มาจากการปรับเปลี่ยนลักษณะทางสัณฐานวิทยาและ / หรืออินเตอร์เฟซ VO2 / SnO2 hetero โครงสร้าง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป็นวิธีแมกนีตรอนสปัตเตอริงเต่งอุตสาหกรรม fabricating , เทคนิคมีข้อดีที่แตกต่างกันสำหรับการผลิตขนาดใหญ่ เพื่อศึกษาผลของชั้นบัฟเฟอร์ในชั่วคราว - tion และเทอร์โมโครมิกการแสดงของภาพยนตร์ การใช้ออกซิเจน การใช้ RF แมกนีตรอนสปัตเตอริง วิธีที่เรา fabri - ตั้งอยู่สามชนิดของบัฟเฟอร์ชั้นซิลิ TiO2 SnO2 ในโซดามะนาวและทุ่นแก้ว แล้วตามรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริงแบบภาพยนตร์การใช้ออกซิเจนอยู่ฝาก เนื่องจากข้อจำกัดของการรักษาอุณหภูมิความร้อน - ment เมื่อใช้โซดามะนาวลอยแก้วเป็นวัสดุทึบเฟสรูไทล์ ) ไม่สามารถเกิดขึ้น นำไปสู่การก่อตัวของวาเนเดียมออกไซด์ สารประกอบที่มีนา ไอออน เมื่อใช้ SnO2 เป็นชั้นบัฟเฟอร์ เราพบว่า ค่อนข้างสูง การใช้ออกซิเจนบริสุทธิ์ สามารถเก็บไว้ได้อย่างง่ายดาย นอกจากนี้ ดอทคอม - pared กับผลของบัฟเฟอร์ชั้นซิลิกอนไดออกไซด์เราสังเกตสามารถมองเห็นความโปร่งใสลดลง emissivity อินฟราเรด ซึ่งควรจะส่วนใหญ่มาจากการแก้ไขโครงสร้างและ / หรือโครงสร้างอื่นการใช้ออกซิเจน / SnO2 อินเตอร์เฟซ