1. A substrate is coated with a pol

1. A substrate is coated with a polymer film called resist layer.
2. A beam of UV light passes through the mask and react with the resist.
3. The exposed parts of the resist are dissolved during the developing stage -revealing the replica of the mask pattern.
4. The substrate is then placed in an acidic solution which etches silica has been removed, the resist is dissolve in a different solution.
5. Further etches remove silicon from the exposed areas-creating nanostructures

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

1.พื้นผิวจะเคลือบ ด้วยพอลิเมอร์ชั้นฟิล์มต้านทานเรียกว่า2.แสงผ่านแสง UV ผ่านรูปแบบและตอบสนองกับการต่อต้าน3. ส่วนสัมผัสของการต่อต้านเป็นส่วนยุบในระหว่างการพัฒนาขั้นตอน - แบบจำลองของรูปแบบรูปแบบเปิดเผย4.พื้นผิวจากนั้นวางในโซลูชันการเปรี้ยวที่ etches ซิลิก้าออก ต่อต้านจะจางหายในโซลูชันต่าง ๆ5. เพิ่มเติม etches เอาซิลิคอนจาก nanostructures สร้างพื้นที่สัมผัส

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

1. พื้นผิวที่จะเคลือบด้วยฟิล์มพอลิเมอเรียกว่าต่อต้านชั้น.
2 ลำแสงของแสงยูวีผ่านหน้ากากและทำปฏิกิริยากับต้านทาน.
3 ส่วนที่สัมผัสของต่อต้านละลายในระหว่างขั้นตอนการพัฒนาแบบจำลองของ -revealing รูปแบบหน้ากาก.
4 พื้นผิวอยู่แล้วในการแก้ปัญหาที่เป็นกรดซึ่ง etches ซิลิกาได้ถูกลบออกต่อต้านคือละลายในการแก้ปัญหาที่แตกต่างกัน.
5 นอกจาก Etches เอาซิลิกอนจากการสัมผัสพื้นที่สร้างโครงสร้างนาโน