In summary, the role of the Oxone i

In summary, the role of the Oxone in the slurry could be essentially chemical, affecting only the creation of a hydrophobic layer on the surface of the abrasive, and not the size of the particles formed at the initial pH-value of 12. Thus, one can obtain low roughness surface and a high quality in the polishing results with Oxone oxidizer at low concentrations.

4. Conclusions
As a novelty, a new CMP process to obtain lower values either MRR or roughness on the surface is proposed. For this, two new oxidizers, K2S2O7 and Oxone are used, because of their chemical properties.

After performing both chemical and mechanical polishing processes studies in small but suitable sized samples, one come to the conclusion that the best conditions to achieve a smooth surface without subsurface damage is the use of CeO2 as abrasive, at a pressure of 100 kPa, a flow rate of 10 ml/min and 40 rpm as a speed of the plate.

Regarding the chemical parameters of the oxidizer, taking into account the roughness and the MRR obtained, one of the best options would be the use of Oxone in a concentration of 0.25%.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในการสรุปบทบาทของ Oxone ในสารละลายที่อาจจะสารเคมีหลักที่มีผลต่อการสร้างเพียงชั้นไม่ชอบน้ำบนพื้นผิวของขัดและไม่ได้ขนาดของอนุภาคที่เกิดขึ้นในเบื้องต้นค่า pH 12 ดังนั้น, หนึ่งสามารถขอรับความหยาบผิวต่ำและมีคุณภาพสูงในผลขัดกับ Oxone สันดาปที่ความเข้มข้นต่ำ. 4 สรุปผลการวิจัยในฐานะที่เป็นความแปลกใหม่เป็นกระบวนการ CMP ใหม่ที่จะได้รับค่าที่ต่ำกว่าทั้งอัตราดอกเบี้ย MRR หรือหยาบกร้านบนพื้นผิวที่มีการเสนอ สำหรับเรื่องนี้ทั้งสองออกซิไดเซอร์ใหม่ K2S2O7 และ Oxone ถูกนำมาใช้เพราะคุณสมบัติทางเคมีของพวกเขา. หลังจากการดำเนินการทั้งทางเคมีและวิศวกรรมกระบวนการขัดการศึกษาในกลุ่มตัวอย่างขนาดเล็ก แต่มีความเหมาะสมอย่างใดอย่างหนึ่งมาถึงข้อสรุปว่าเงื่อนไขที่ดีที่สุดเพื่อให้บรรลุพื้นผิวเรียบโดยไม่ต้อง ความเสียหายดินคือการใช้ CEO2 เป็นขัดที่ความดัน 100 กิโลปาสคาล, อัตราการไหล 10 มล. / นาทีและ 40 รอบต่อนาทีความเร็วของแผ่นที่ก. เกี่ยวกับพารามิเตอร์ทางเคมีของสารออกซิไดที่คำนึงถึงความหยาบกร้านและ MRR ได้รับหนึ่งในตัวเลือกที่ดีที่สุดจะใช้ Oxone ความเข้มข้น 0.25% ที่

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สรุปได้ว่า บทบาทของ oxone ในสารละลายอาจเป็นหลักเคมีที่มีผลต่อการสร้างเลเยอร์เท่านั้น ) บนผิวหยาบกร้าน และขนาดของอนุภาคที่เกิดขึ้นในเบื้องต้น ค่า pH 12 ดังนั้นหนึ่งสามารถขอรับความขรุขระพื้นผิวต่ำและมีคุณภาพสูงในการขัดด้วยผล oxone การสันดาปที่ความเข้มข้นต่ำ4 . สรุปเป็นนวัตกรรมใหม่ เพื่อให้ได้ประสิทธิภาพ กระบวนการลดค่าให้ลูกค้าหรือขรุขระบนพื้นผิว คือ เสนอ นี้ สอง oxidizers ใหม่และ k2s2o7 oxone ใช้เพราะคุณสมบัติทางเคมีของพวกเขาหลังจากดำเนินการทั้งทางเคมีและกระบวนการทางการศึกษาในขนาดเล็ก แต่ขัดที่เหมาะสมขนาดตัวอย่างหนึ่งข้อสรุปว่าเงื่อนไขที่ดีที่สุดเพื่อให้บรรลุผิวเรียบ โดยไม่มีการเสียคือการใช้ของ CeO2 ที่หยาบกร้าน ที่ความดัน 100 kPa , อัตราการไหลของมิลลิลิตรต่อนาทีและ 10 เป็น 40 รอบต่อนาที ความเร็วของ จานเกี่ยวกับเคมีพารามิเตอร์ของการสันดาป โดยคำนึงถึงความขรุขระและเป็นตำบลหนึ่งในตัวเลือกที่ดีที่สุดจะใช้ oxone ในความเข้มข้น 0.25 %