Advanced oxidation processes (AOP)

Advanced oxidation processes (AOP) have been proposed as an effective treatment method for organic contaminants in water and wastewaters. Among them, UV/H2O2 has shown great potential for the destruction of a wide range of persistent organic contaminants. The UV/H2O2 process comprises direct photolysis, where the target compound is transformed through absorbing UV photons, and indirect photolysis, where the compounds react with OH radical produced via photolysis of H2O2. Whereas direct photolysis rate is controlled by two factors, i.e. the molar absorption coefficient and the quantum yield, indirect photodegradation rate depends on the formation of oxidant species, i.e. the hydroxyl radical, and radical scavengers in the background water.

In this study, photodegradation of parathion both by direct UV and the UV/H2O2 oxidation process were investigated. The objectives of this study were to: (i) elucidate the parathion UV photodegradation kinetics, and (ii) understand the degradation mechanism through the analysis of various byproducts. Both low pressure (LP) UV lamps and medium pressure (MP) UV lamps were evaluated

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขั้นสูงการออกซิเดชันกระบวน (AOP) ได้รับการเสนอเป็นวิธีการรักษาที่มีประสิทธิภาพสำหรับอินทรีย์สารปนเปื้อนในน้ำและ wastewaters ในหมู่พวกเขา UV/H2O2 ได้แสดงศักยภาพที่ดีสำหรับการทำลายของสารปนเปื้อนอินทรีย์แบบหลากหลาย การ UV/H2O2 ประกอบด้วย photolysis ตรง ที่บริเวณเป้าหมายถูกแปลงผ่านดูด UV photons และ photolysis ทางอ้อม การที่สารประกอบที่ทำปฏิกิริยากับ OH รุนแรงผลิตผ่าน photolysis ของ H2O2 ในขณะที่อัตรา photolysis โดยตรงจะถูกควบคุม โดยสองปัจจัย เช่นสัมประสิทธิ์การดูดซึมสบและผลตอบแทนของควอนตัม photodegradation อ้อมอัตราขึ้นอยู่กับการก่อตัวของอนุมูลอิสระชนิด เช่นการไฮดรอก และ scavengers รุนแรงในพื้นน้ำในการศึกษานี้ มีสอบสวน photodegradation parathion ทั้ง UV โดยตรงและการเกิดออกซิเดชัน UV/H2O2 วัตถุประสงค์ของการศึกษานี้ได้: (i) elucidate จลนพลศาสตร์ photodegradation parathion UV และ (ii) เข้าใจกลไกการย่อยสลาย โดยการวิเคราะห์สารต่าง ๆ ประเมินความดันต่ำ (LP) UV โคมไฟและโคมไฟยูวีแรงดันปานกลาง (MP)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

กระบวนการออกซิเดชั่ขั้นสูง (AOP) ได้รับการเสนอเป็นวิธีการรักษาที่มีประสิทธิภาพสำหรับการปนเปื้อนสารอินทรีย์ในน้ำและน้ำเสีย ในหมู่พวกเขา UV / H2O2 ได้แสดงให้เห็นศักยภาพที่ดีสำหรับการทำลายของความหลากหลายของสารปนเปื้อนอินทรีย์ถาวร ยูวี / กระบวนการ H2O2 ประกอบด้วย photolysis โดยตรงที่สารประกอบเป้าหมายจะเปลี่ยนผ่านการดูดซับรังสียูวีโฟตอนและ photolysis ทางอ้อมที่สารทำปฏิกิริยากับ OH รุนแรงที่ผลิตผ่าน photolysis ของ H2O2 ในขณะที่อัตราการ photolysis โดยตรงจะถูกควบคุมโดยสองปัจจัยคือค่าสัมประสิทธิ์การดูดซึมกรามและผลผลิตควอนตัม, อัตราการสลายทางอ้อมขึ้นอยู่กับการก่อตัวของสายพันธุ์อนุมูลอิสระเช่นหัวรุนแรงมักซ์พลังค์และดักจับอนุมูลในน้ำพื้นหลัง. ในการศึกษานี้สลายของ parathion ทั้งโดยทางตรงและรังสียูวียูวี / H2O2 กระบวนการออกซิเดชั่ถูกตรวจสอบ วัตถุประสงค์ของการศึกษานี้มีวัตถุประสงค์เพื่อ (i) อธิบาย UV parathion จลนศาสตร์สลายและ (ii) เข้าใจกลไกการย่อยสลายผ่านการวิเคราะห์สารต่างๆ ทั้งความดันต่ำ (LP) โคมไฟยูวีและความดันขนาดกลาง (MP) โคมไฟยูวีที่ได้รับการประเมิน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

กระบวนการออกซิเดชันขั้นสูง ( AOP ) ได้ถูกเสนอเป็นวิธีการรักษาที่มีประสิทธิภาพสำหรับอินทรีย์สารปนเปื้อนในน้ำและน้ำทิ้ง . ในหมู่พวกเขา , UV / H2O2 ได้แสดงศักยภาพที่ดีสำหรับการทำลายของหลากหลายของสารปนเปื้อนอินทรีย์แบบถาวร กระบวนการ UV / แบตเตอรี่ประกอบด้วยโฟโตไลซิสโดยตรง ซึ่งสารประกอบเป้าหมายจะเปลี่ยนผ่านการดูดซับโฟตอนยูวี ,โฟโตไลซิสและทางอ้อมที่สารทำปฏิกิริยากับอนุมูลอิสระที่ผลิตโดยโอโฟโตไลซิสของแบตเตอรี่ . ในขณะที่อัตราโฟโตไลซิส โดยตรง จะถูกควบคุมโดยสองปัจจัย คือฟันกรามซี่มีค่าสัมประสิทธิ์การดูดกลืนแสงและจำนวนผลผลิต , อัตราการย่อยสลายด้วยแสงทางอ้อมขึ้นอยู่กับการก่อตัวของอนุมูลอิสระชนิด เช่นเอชทีทีพีและรุนแรงเกิดในน้ำพื้นหลัง

ในการศึกษานี้การใช้แสง UV ทั้งโดยตรงและโดย / UV H2O2 กระบวนการออกซิเดชัน คือ การศึกษาครั้งนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อ ( 1 ) ศึกษาการใช้แสง UV โดยจลนพลศาสตร์และ ( 2 ) เข้าใจกลไกการย่อยสลายผ่านการวิเคราะห์สารต่างๆ ทั้งความดันต่ำ ( LP ) หลอด UV และแรงดันปานกลาง ( MP ) หลอด UV จำนวน