Two new silica-based composites wer

Two new silica-based composites were prepared as adsorbents for the capture of Ni(II) ions. The first
strategy consists in coating chitosan on colloidal fumed silica after acidic treatment yielding the composite
SiO2 + CS. The second route involves in a first step surface condensation of triethoxysilylbutyronitrile,
followed by acidic hydrolysis of the surface-bound nitrile groups affording silica particles covered by carboxylic
group. In a third step, chitosan has been grafted on the surface-bound C( O)OH groups yielding
the composite SiO2(CO2H) + CS. The novel hybrid materials were characterized by IR spectroscopy, scanning
electron andAFM microscopy, and zeta potential measurements. Batch experiments were conducted
to study the sorption performance of these composites for Ni(II) removal from aqueous NiCl2 solution at
different pH. Both Langmuir, Freundlich, and Temkin isotherm models provide good fits with the experimental
data. It was shown that these low-cost materials present a promising capacity to adsorb Ni(II)
ions. At pH 7, the maximum adsorption capacity qmaxof Ni(II) on the adsorbent, is found to be 182 mg g−1
for SiO2 + CS, and 210 mg g−1 for SiO2(CO2H) + CS.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สองคอมโพสิตซิลิกาที่ใช้ใหม่ที่ได้จัดทำขึ้นเป็นตัวดูดซับสำหรับการจับภาพของ Ni (II) ไอออน แรก
ประกอบด้วยกลยุทธ์ในการเคลือบไคโตซานต่อซิลิกา fumed คอลลอยด์หลังการรักษาที่เป็นกรดยอมคอมโพสิต
SiO2 + CS เส้นทางที่สองเกี่ยวข้องกับการรวมตัวในพื้นผิวขั้นตอนแรกของ triethoxysilylbutyronitrile,
ตามด้วยการย่อยสลายเป็นกรดในกลุ่มไนไตรล์ผิวที่ถูกผูกไว้เจตนารมณ์อนุภาคซิลิกาปกคลุมด้วยคาร์บอกซิ
กลุ่ม ในขั้นตอนที่สามไคโตซานได้รับการทาบบนพื้นผิวที่ถูกผูกไว้ C (O) OH กลุ่มผลผลิต
คอมโพสิต SiO2 (CO2H) + บริการลูกค้า วัสดุไฮบริดนวนิยายโดดเด่นด้วยสเปคโทร IR สแกน
กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน andAFM และวัดศักยภาพซีตา การทดลองรุ่นที่ได้ดำเนินการ
เพื่อศึกษาประสิทธิภาพการดูดซับของวัสดุผสมเหล่านี้สำหรับ Ni (II) ออกจากการแก้ปัญหา NiCl2 น้ำที่
มีค่า pH ที่แตกต่างกัน ทั้งสอง Langmuir, Freundlich และ Temkin รูปแบบไอโซเทอมให้พอดีกับที่ดีกับการทดลอง
ข้อมูล มันแสดงให้เห็นว่าสิ่งเหล่านี้วัสดุที่ใช้ต้นทุนต่ำนำเสนอความจุที่มีแนวโน้มที่จะดูดซับ Ni (II)
ไอออน ที่ pH 7 ความจุการดูดซับสูงสุด qmaxof Ni (II) ในการดูดซับที่จะพบว่ามี 182 มิลลิกรัมต่อกรัม-1
สำหรับ SiO2 + CS และ 210 มก. G-1 สำหรับ SiO2 (CO2H) + บริการลูกค้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สองใหม่ตามคอมเตรียมซิลิกาเป็นวัสดุดูดซับสำหรับการจับ Ni ( II ) ไอออน กลยุทธ์แรก
ประกอบด้วยเคลือบไคโตแซน fumed ซิลิกาคอลลอยด์ หลังจากกรดรักษา CS SiO2 ประกอบ
ยวบยาบ เส้นทางที่สองเกี่ยวข้องกับผิวในขั้นตอนแรกเกิด triethoxysilylbutyronitrile
,ตามด้วยการเป็นกรดของผิวไว้ไนกลุ่มอนุภาคซิลิกา เพื่อครอบคลุมกลุ่มคาร์บอกซิลิก
. ในขั้นตอนที่สาม ไคโตซานมีกราฟต์บนพื้นผิวผูกพัน C ( O ) โอ้กลุ่มผลผลิต
SiO2 คอมโพสิต ( co2h ) cs นวนิยายผสมวัสดุลักษณะ IR spectroscopy , สแกน
andafm กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน และซีตาศักยภาพวัดชุดการทดลอง มีวัตถุประสงค์เพื่อศึกษาประสิทธิภาพในการดูดซับ
คอมโพสิตเหล่านี้สำหรับฉัน ( 2 ) การกำจัดสารละลาย nicl2 สารละลายที่แตกต่างกันทั้งขนาด
เมื่อดูดติดผิว และเพื่อให้เหมาะกับนางแบบดีเทมคิ้นข้อมูล

พบว่าวัสดุต้นทุนต่ำเหล่านี้ปัจจุบันความจุสัญญาเพื่อดูดซับ Ni ( II )
ไอออน ที่ pH 7ความสามารถในการดูดซับสูงสุด qmaxof Ni ( II ) บนตัวดูดซับมี 182 มก. G − 1
สำหรับ SiO2 CS และ 210 mg G − 1 สำหรับ SiO2 ( co2h ) cs