Magnetron sputtering is a plasma co

Magnetron sputtering is a plasma coating process whereby sputtering material is ejected due to bombardment of ions to the target surface. The vacuum chamber of the PVD coating machine is filled with an inert gas, such as argon. By applying a high voltage, a glow discharge is created, resulting in acceleration of ions to the target surface and a plasma coating. The argon-ions will eject sputtering materials from the target surface (sputtering), resulting in a sputtered coating layer on the products in front of the target.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Magnetron พ่นคือ กระบวนการเคลือบพลาสม่าโดยพ่นวัสดุออกเนื่องจากการระดมยิงของประจุพื้นผิวเป้าหมาย ห้องสุญญากาศของเครื่องเคลือบ PVD จะเต็มไป ด้วยก๊าซเฉื่อย เช่นอาร์กอน โดยใช้แรงดันสูง จำหน่ายเรืองแสงแล้ว ผลในการเร่งความเร็วของประจุพื้นผิวเป้าหมายและเคลือบพลาสม่า อาร์กอนประจุจะเอาวัสดุที่พ่นจากเป้าหมายผิวน้ำ (พ่น), ในชั้น sputtered เคลือบบนผลิตภัณฑ์หน้าเป้าหมาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สปัตเตอร์ Magnetron เป็นกระบวนการเคลือบพลาสม่าโดยวัสดุสปัตเตอร์ออกมาเนื่องจากการโจมตีของไอออนกับพื้นผิวเป้าหมาย สุญญากาศของเครื่องเคลือบ PVD ​​ที่เต็มไปด้วยก๊าซเฉื่อยเช่นอาร์กอน โดยใช้แรงดันสูง, จำหน่ายเรืองแสงจะถูกสร้างขึ้นที่มีผลในการเร่งความเร็วของไอออนกับพื้นผิวเป้าหมายและการเคลือบพลาสม่า อาร์กอน-ไอออนจะนำแผ่นวัสดุสปัตเตอร์จากพื้นผิวเป้าหมาย (สปัตเตอร์) ส่งผลให้ชั้นเคลือบ sputtered เกี่ยวกับผลิตภัณฑ์ในด้านหน้าของเป้าหมาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แมกนีตรอนสปัตเตอริงคือกระบวนการเคลือบสปัตเตอร์พลาสม่าซึ่งวัสดุออกเนื่องจากการโจมตีของไอออนกับชิ้นงาน สูญญากาศของ PVD เคลือบเครื่องเต็มไปด้วยก๊าซเฉื่อย เช่น ก๊าซอาร์กอน โดยใช้แรงดันสูง ซึ่งการสร้างผลในการเร่งของไอออนและพลาสมากับพื้นผิวชิ้นงาน การเคลือบผิวอาร์กอนไอออนจะออกวัสดุชิ้นงานจากชิ้นงาน ( ทำงาน ) , ผลในการ sputtered ชั้นเคลือบบนผลิตภัณฑ์ในด้านหน้าของเป้าหมาย