The selected pressures, 400 MPa and

The selected pressures, 400 MPa and 600 MPa, were applied and maintained for the desired treatment time (5min and 10min), then released. The selected temperatures of the treatment chamber (20 °C and 40 °C), both below the gelatinization temperature of the raw materials at atmospheric pressure, were reached by means of an electric resistance heating band.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เลือกความกดดัน 400 MPa และ 600 MPa ถูกนำไปใช้ และรักษาเวลาการรักษาที่ต้องการ (5 นาทีและ 10 นาที), แล้วออก เลือกอุณหภูมิของห้องบำบัด (20 ° C ถึง 40 ° C), ด้านล่าง gelatinization อุณหภูมิของวัตถุดิบที่ความดันบรรยากาศ ได้ถึงโดยใช้ตัวต้านทานไฟฟ้าร้อนวง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แรงกดดันที่เลือก 400 MPa และ 600 MPa, ถูกนำไปใช้และการบำรุงรักษาสำหรับเวลาในการรักษาที่ต้องการ (5 นาทีและ 10 นาที) ปล่อยแล้ว อุณหภูมิของห้องที่เลือกการรักษา (20 ° C และ 40 ° C) ทั้งสองด้านล่างอุณหภูมิการเกิดเจลของวัตถุดิบที่ความดันบรรยากาศก็มาถึงโดยวิธีการของวงร้อนความต้านทานไฟฟ้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เลือก 1 , 400 และ 600 เมกกะปาสคาล ) ประยุกต์และการรักษาสำหรับการรักษาที่ต้องการเวลา และวัน 5 นาที ) แล้วปล่อย เลือกอุณหภูมิของห้องบำบัด ( 20 ° C และ 40 ° C ) ทั้งด้านล่างค่าอุณหภูมิของวัตถุดิบที่ความดันบรรยากาศ คือถึงโดยวิธีการของความต้านทานความร้อนไฟฟ้าวง