It has to the applicability of thre

It has to the applicability of three methods to clean and condition the surface of silicon wafers by an ultra-thin oxide layer

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มีการยอมรับวิธีการสามวิธีการทำความสะอาดและสภาพพื้นผิวของซิลิคอนเวเฟอร์ โดยมีชั้นออกไซด์บางเฉียบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มันจะต้องมีการบังคับใช้ของสามวิธีในการทำความสะอาดและปรับสภาพพื้นผิวของซิลิคอนเวเฟอร์โดยชั้นออกไซด์บางเฉียบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

มันมีการใช้ 3 วิธี เพื่อความสะอาดและสภาพผิวของซิลิกอนเวเฟอร์ โดยมีชั้นออกไซด์ที่บางเฉียบ