for different film compositions, sp

for different film compositions, spin coating was performed at different rates as shown in Table 1. Then, the substrates were annealed at 400 °C for 1 h. The thickness of the films measured by SEM was about 1 μm. In the study of film thickness dependence, the coating was repeated a few times.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สำหรับฟิล์มต่างองค์ เคลือบหมุนที่ดำเนินการที่แสดงในตารางที่ 1 แล้ว พื้นผิวถูก annealed ที่ 400 ° C สำหรับ 1 h ความหนาของฟิล์มที่วัด โดย SEM มี μm ประมาณ 1 ในการศึกษาการพึ่งพาความหนาฟิล์ม เคลือบมีซ้ำกี่ครั้ง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สำหรับองค์ประกอบที่แตกต่างกันฟิล์มเคลือบหมุนได้ดำเนินการในอัตราที่แตกต่างกันดังแสดงในตารางที่ 1 จากนั้นพื้นผิวที่ไ​​ด้รับการอบที่อุณหภูมิ 400 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 1 ชั่วโมง ความหนาของฟิล์มวัดจาก SEM มีประมาณ 1 ไมโครเมตร ในการศึกษาของการพึ่งพาอาศัยความหนาของฟิล์มเคลือบซ้ำกี่ครั้ง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สำหรับภาพยนตร์ที่แตกต่างกันองค์ประกอบเคลือบหมุนได้ในอัตราที่แตกต่างกัน ดังแสดงในตารางที่ 1 จากนั้นเมื่อได้อบที่ 400 องศา C เป็นเวลา 1 ชั่วโมง โดยวัดจากความหนาของฟิล์มนี้ได้ประมาณ 1 μเมตร ในการศึกษา การพึ่งพาความหนาฟิล์ม , เคลือบกันไม่กี่ครั้ง