A part of the photoresist layer is

A part of the photoresist layer is removed by treating the wafer with the basic or acidic solution.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เป็นส่วนหนึ่งของชั้นเพียงจะถูกเอาออก โดยการรักษาเวเฟอร์ ด้วยโซลูชันพื้นฐาน หรือเป็นกรด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เป็นส่วนหนึ่งของชั้นไวแสงจะถูกลบออกโดยการรักษาเวเฟอร์ที่มีวิธีการแก้ปัญหาขั้นพื้นฐานหรือเป็นกรด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป็นส่วนหนึ่งของระบบชั้นจะถูกเอาออกโดยการเวเฟอร์กับพื้นฐาน หรือเปรี้ยว โซลูชั่น