The surface is now covered with the

The surface is now covered with the photo resist which is deposited onto the wafer and spun to an even distribution of the required thickness.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ตอนนี้มีการปกคลุมพื้นผิว ด้วยต้านทานรูปภาพ ที่ฝากไว้บนแผ่นเวเฟอร์ที่ปั่นเพื่อการกระจายตัวของความหนาที่ต้อง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พื้นผิวที่ได้รับการคุ้มครองในขณะนี้กับภาพต่อต้านซึ่งเป็นเงินฝากลงบนแผ่นเวเฟอร์และหมุนตัวไปสู่การกระจายตัวของความหนาที่ต้องการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ผิวตอนนี้เต็มไปด้วยภาพต่อต้านซึ่งฝากไว้บนเวเฟอร์และปั่นเพื่อการกระจายตัวของที่ต้องการความหนา