highest in L3HUF; 64.4 ± 1.7 to 69.

highest in L3HUF; 64.4 ± 1.7 to 69.7 ± 1.8 % DM basis
and recorded lowest in LINOL and highest in MUSOL;
21.1 ± 1.8 to 24.5 ± 1.5 % DM basis recorded lowest in
MIXOL and highest in L3HUF; 2.1 ± 0.2 to 2.5 ± 0.1 %
recorded lowest in NATFO and highest in LINOL and
3.4 ± 0.3 to 4.3 ± 0.2 % recorded lowest in NATFO and
highest in H3HUF.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สูงที่สุดใน L3HUF 64.4 ± 1.7-69.7 ± 1.8% DM พื้นฐานและบันทึกไว้ต่ำที่สุดใน LINOL และสูงที่สุดใน MUSOL21.1 ± 1.8-24.5 ± 1.5% DM พื้นฐานบันทึกต่ำสุดในMIXOL และสูงที่สุดใน L3HUF 2.1 ± 0.2-2.5 ± 0.1%บันทึกต่ำสุด ใน NATFO และสูงที่สุดจาก LINOL และ3.4 ±± 0.3-4.3 0.2% บันทึกใน NATFO ต่ำสุด และสูงสุดใน H3HUF

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สูงสุดใน l3huf ; 64.4 ± 1.7 กับ 1.8 % ของวัตถุแห้งและ±
และบันทึกใน linol ต่ำสุดและสูงสุดใน musol ;
21.1 ± 1.8 ถึง 24.5 ± 1.5 % ของวัตถุแห้งและบันทึกค่า
mixol สูงสุดใน l3huf ; 2.1 ± 0.2 ถึง 2.5 ± 0.1 %
บันทึกต่ำสุดและสูงสุดใน natfo linol และ
3.4 ± 0.3 ถึง 4.3 ± 0.2% บันทึกต่ำสุดและสูงสุดใน natfo

h3huf .