¼ Rmax  AT3:2; ð7Þwhere AT3.2 is t

¼ Rmax  AT3:2; ð7Þ
where AT3.2 is the sum of biofilm surface area of the walls and the
baffles until the depth x at which the oxygen concentration was
above 3.2 g m3. The biofilm N-conversions where the oxygen concentrations
were lower than 3.2 g m3 were calculated using Eq. (8):
Biofilm N-conversions ðg d1
Þ ¼ W 
Z 0:8
x3:2
RNitr biofilmðxÞdx; ð8Þ
where RNitri biofilm is biofilm nitrification rates (g m2 d1) at oxygen
concentration below 3.2 g m3, x3.2 is depth at which oxygen concentration
was below 3.2 g m3.
In order to obtain an expression for RNitr biofilm(x), Rmax for biofilm
was divided by 3.2 to obtain slope ‘‘a’’ (Fig. 1). The slope
was multiplied with the oxygen concentrations at different depths
to obtain nitrification rates at these depths and fitted with an exponential
equation of the type y = c  exp (dx). This equation was
integrated (Eq. (9)) to give biofilm N-conversions (for oxygen concentration
less than 3.2 g m3) as:
Biofilm N-conversions ðg d1
Þ
¼ W  cð1=dÞ expðd  x3:2Þ W  cð1=dÞ expðd  0:8Þ;

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

¼ Rmax AT3:2 ð7Þ
AT3.2 อยู่ที่ผลรวมของ biofilm พื้นที่ผิวของผนังและ
พุ่งจนถึงความลึก x ที่มีความเข้มข้นออกซิเจน
เหนือ 3.2 g m 3 Biofilm N แปลงที่ความเข้มข้นออกซิเจน
คนที่ต่ำกว่า 3.2 g m 3 ถูกคำนวณโดยใช้ Eq. (8):
Biofilm N แปลง ðg d 1
Þ¼ W
Z 0:8
x 3:2
RNitr biofilmðxÞdx ð8Þ
biofilm การอนาม็อกซ์ราคา (g m 2 d 1) ที่ออกซิเจน RNitri biofilm
ความเข้มข้นต่ำกว่า 3.2 g m 3, x3.2 เป็นความลึกที่ความเข้มข้นออกซิเจนที่
ไม่ต่ำกว่า 3.2 g m 3.
เพื่อรับนิพจน์สำหรับ RNitr biofilm(x), Rmax ใน biofilm
ถูกหาร 3.2 รับลาด ''เป็น '' (Fig. 1) ลาด
ถูกคูณ ด้วยความเข้มข้นของออกซิเจนที่ความลึกแตกต่างกัน
เพื่อขอรับการอนาม็อกซ์ราคาห้องลึกเหล่านี้ และด้วยการเนน
สมการ y ชนิด = c exp (dx) สมการนี้ถูก
รวม (Eq. (9)) ให้ biofilm แปลง N (สำหรับความเข้มข้นออกซิเจน
น้อยกว่า 3.2 g m 3) เป็น:
Biofilm N แปลง ðg d 1
Þ
¼ W cð 1 = dÞ expð d x 3: 2Þ W cð 1 = dÞ expð d 0:8Þ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

¼ Rmax? AT3: 2; ð7Þ
ที่ AT3.2 คือผลรวมของพื้นที่ผิวไบโอฟิล์มของผนังและ
แผ่นกั้นจน x ลึกที่ความเข้มข้นของออกซิเจนที่
สูงกว่า 3.2 กรัม 3 ไบโอฟิล์ม N-แปลงที่ความเข้มข้นของออกซิเจน
ต่ำกว่า 3.2 กรัม 3 จะถูกคำนวณโดยใช้สมการ (8):
ฟิล์มชีว N-แปลง DG ง 1?
Þ¼ W?
Z 0: 8
x3: 2
RNitr biofilmðxÞdx; ð8Þ
ที่ RNitri ไบโอฟิล์มเป็นอัตราไนตริฟิเคไบโอฟิล์ม (กรัม 2 D? 1) ออกซิเจนที่
มีความเข้มข้นต่ำกว่า 3.2 กรัม 3, x3.2 เป็นความลึกที่ความเข้มข้นของออกซิเจน
ต่ำกว่า 3.2 กรัม 3
เพื่อให้ได้แสดงออก RNitr ไบโอฟิล์ม (x), Rmax สำหรับไบโอฟิล์ม
ได้รับหารด้วย 3.2 จะได้รับความลาดชัน '' '' (รูปที่ 1). ลาด
ถูกคูณกับความเข้มข้นของออกซิเจนที่ระดับความลึกที่แตกต่างกัน
เพื่อให้ได้อัตราไนตริฟิเคที่ความลึกเหล่านี้และพอดีกับที่อธิบาย
สมการพิมพ์ y c =? exp (? DX) สมการนี้ได้รับการ
แบบบูรณาการ (สมการ (9)). เพื่อให้ไบโอฟิล์ม N-แปลง (สำหรับความเข้มข้นของออกซิเจน
น้อยกว่า 3.2 กรัม 3?) เป็น:
ฟิล์มชีว N-แปลง DG ง 1?
Þ
¼ W? CD 1 = DTH EXPD? d? x3: 2th W? CD 1 = DTH EXPD? d? 0: 8;

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

¼ rmax  at3:2 ; ð 7 Þ
ที่ at3.2 คือผลรวมของไบโอฟิล์มพื้นผิวของผนังและ
แผ่นกั้นจนความลึก x ที่ความเข้มข้นของออกซิเจนคือ
ข้างบน 3.2 G M  3 ส่วนฟิล์ม n-conversions ที่ออกซิเจนความเข้มข้น
ต่ำกว่า 3.2 G M  3 ) คำนวณโดยใช้อีคิว ( 8 ) :
ฟิล์ม n-conversions ð G D  1
Þ¼ W 
z 0:8

x3:2 rnitr ฟิล์มð x Þ DX ð 8 Þ
;ที่ rnitri ฟิล์มเป็นฟิล์มอัตราไนตริฟิเคชัน ( G M  2 D  ( 1 ) ออกซิเจนความเข้มข้นต่ำกว่า 3.2 G M 
3
x3.2 คือความลึกที่ความเข้มข้นออกซิเจนต่ำกว่า 3.2 G M  3
เพื่อรับสำนวนสำหรับ rnitr ไบโอฟิล์ม ( X ) , rmax สำหรับฟิล์ม
ถูกแบ่งออกโดย 3.2 เพื่อขอรับ ' ' ชัน ' ' ( รูปที่ 1 ) ความลาดชัน
ถูกคูณด้วยออกซิเจนความเข้มข้นที่แตกต่างกันลึก
เพื่อให้ได้อัตราไนตริฟิเคชันที่ความลึกเหล่านี้และติดตั้งกับสมการเอกซ์โพเนนเชียล
ชนิด Y = C  EXP (  DX ) สมการนี้คือ
แบบบูรณาการ ( อีคิว ( 9 ) เพื่อให้ฟิล์ม n-conversions ( ความเข้มข้นของออกซิเจน
น้อยกว่า 3.2 G M  3 ) :
ฟิล์ม n-conversions ð G D  1

Þ¼ W  C ð  1 = D Þ EXP ð  D  x3:2 Þ  W  C ð  1 = D Þ EXP ð  D  0:8 Þ ;