Quartz substrateswere utilized sinc

Quartz substrates
were utilized since they aremechanically adequate for heat treatments,
and they permit realization of annealingwithout atomic diffusion at the
interface between thin films and substrate

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พื้นผิวของควอทซ์ใช้มันเพียงพอสำหรับการรักษาความร้อน aremechanicallyและพวกเขาอนุญาตให้สำนึกที่แพร่อะตอม annealingwithout การอินเตอร์เฟซระหว่างฟิล์มบางและพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พื้นผิวผลึก
ถูกนำมาใช้ตั้งแต่พวกเขา aremechanically เพียงพอสำหรับการรักษาความร้อน
และพวกเขาอนุญาตให้มีการก่อให้เกิดการแพร่กระจาย annealingwithout อะตอมที่
เชื่อมต่อระหว่างฟิล์มบางและพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ควอตซ์พื้นผิวที่ใช้เพราะพวกเขา aremechanically เพียงพอสำหรับการรักษาความร้อนและพวกเขาอนุญาตให้มีการกระจาย annealingwithout อะตอมที่รอยต่อระหว่างพื้นผิวและฟิล์มบาง