1. IntroductionChromium nitride fil

1. Introduction
Chromium nitride films have been developed as an ‘industry standard’ coating for tribological or decorative applications [1], [2] and [3]. For reactively sputtered films the predominant structure that forms depends on a number of deposition parameters, which control the energy delivered to the growing film. This includes the bias applied to the substrate, both in terms of its magnitude and the mode in which it is delivered (i.e. RF, DC, pulsed DC, etc.). In this study the system has been characterised to identify the optimum conditions for CrN deposition, then the effect of pulsing the substrate bias in the mid-frequency range (100–350 kHz) during both the ion etching and deposition stages has been investigated. Previous studies have shown that this can significantly increase the ion current drawn at the substrate, possibly due to the initiation of a second plasma discharge [4] in front of the substrate compared to DC biasing and thereby provide enhanced deposition conditions [5], [6] and [7]. The earlier studies utilised pulsed biasing during the deposition of TiO2 and TiN coatings. This is the first study in which this technique has been applied to CrN films and builds upon earlier published work [8] into the effects of ion energy and nitrogen content.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

บทนำโครเมียมไนไตรน์ภาพยนตร์ได้รับการพัฒนาเป็นการเคลือบ 'อุตสาหกรรม' tribological หรือตกแต่งประยุกต์ [1], [2] และ [3] สำหรับฟิล์ม sputtered นี้ในเชิงโต้ตอบ โครงสร้างเด่นที่ขึ้นอยู่กับรูปแบบหมายเลขของพารามิเตอร์ที่สะสม ซึ่งควบคุมพลังงาน ส่งฟิล์มเติบโต ซึ่งรวมถึงมาตรฐานที่ใช้กับพื้นผิว ทั้งใน แง่ของขนาดและโหมดที่จะส่ง (เช่น RF, DC, DC ตัว ฯลฯ) ในการศึกษานี้ ระบบได้ถูกลักษณะเพื่อระบุเงื่อนไขสำหรับสะสม CrN แล้วผลของโหยหวนความโน้มเอียงของพื้นผิวในช่วงความถี่กลาง (100 – 350 kHz) ระหว่างทั้งการแกะสลักของไอออนที่เหมาะสม และได้รับการตรวจสอบระยะสะสม การศึกษาก่อนหน้านี้ได้แสดงให้ เห็นว่า นี้สามารถเพิ่มไอออนปัจจุบันวาดที่พื้นผิว อาจเนื่องจากการเริ่มต้นของพลาสม่าสองปล่อย [4] ด้านหน้าพื้นผิวเมื่อเทียบกับการให้น้ำหนักกับ DC จึงให้สะสมเพิ่มเงื่อนไข [5], [6] และ [7] การศึกษาก่อนหน้านี้ใช้การให้น้ำหนักกับตัวในระหว่างสะสมของ TiO2 และเคลือบดีบุก นี้เป็นการศึกษาแรกซึ่งเทคนิคนี้ใช้กับฟิล์ม CrN และสร้างเมื่องานที่เผยแพร่ก่อนหน้านี้ [8] ผลกระทบของเนื้อหาพลังงานและไนโตรเจนไอออน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

1. บทนำ
โครเมียมไนไตรด์ภาพยนตร์ได้รับการพัฒนาเป็นมาตรฐานอุตสาหกรรมสำหรับการใช้งานเคลือบ tribological หรือตกแต่ง [1], [2] และ [3] สำหรับภาพยนตร์พ่นเชิงโครงสร้างที่โดดเด่นที่รูปแบบขึ้นอยู่กับจำนวนของพารามิเตอร์การสะสมซึ่งควบคุมพลังงานที่ส่งมอบให้กับภาพยนตร์ที่กำลังเติบโต ซึ่งรวมถึงอคตินำไปใช้กับพื้นผิวทั้งในแง่ของขนาดและโหมดในการที่จะมีการจัดส่ง (เช่น RF, DC, ชีพจร DC, ฯลฯ ) ในการศึกษานี้ระบบได้รับการที่โดดเด่นในการระบุเงื่อนไขที่เหมาะสมสำหรับการสะสม CRN แล้วผลของการเต้นอคติสารตั้งต้นในช่วงกลางเดือนความถี่ (เฮิร์ทซ์ 100-350) ในระหว่างทั้งไอออนแกะสลักและปลดออกจากขั้นตอนที่ได้รับการตรวจสอบ การศึกษาก่อนหน้านี้ได้แสดงให้เห็นว่าเรื่องนี้มีนัยสำคัญสามารถเพิ่มขึ้นในปัจจุบันไอออนวาดพื้นผิวอาจจะเป็นเพราะการเริ่มต้นของการปลดปล่อยพลาสม่าที่สอง [4] ในด้านหน้าของพื้นผิวเมื่อเทียบกับซีให้น้ำหนักและจึงให้เงื่อนไขการสะสมเพิ่มขึ้น [5], [ 6] [7] การศึกษาก่อนหน้านี้ใช้การให้น้ำหนักชีพจรระหว่างการทับถมของ TiO2 และเคลือบดีบุก นี่คือการศึกษาแรกที่ใช้เทคนิคนี้ได้ถูกนำมาใช้กับภาพยนตร์ CRN และสร้างเมื่อผลงานตีพิมพ์ก่อนหน้านี้ [8] ลงในผลกระทบของพลังงานไอออนและเนื้อหาไนโตรเจน