The monocrystalline form is used in

The monocrystalline form is used in the semiconductor device fabrication since grain boundaries would bring discontinuities and favor imperfections in the microstructure of silicon, such as impurities and crystallographic defects, which can have significant effects on the local electronic properties of the material. On the scale that devices operate on, these imperfections would have a significant impact on the functionality and reliability of the devices. Without the crystalline perfection, it would be virtually impossible to build Very Large-Scale Integration (VLSI) devices (figure below), in which millions (up to billions, circa 2005[2]) of transistor-based circuits, all of which must reliably be working, are combined into a single chip to get e.g. a microprocessor. Therefore, the electronics industry has invested heavily in facilities to produce large single crystals of silicon.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แบบฟอร์ม monocrystalline จะใช้ในการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำเนื่องจากขอบเขตของเมล็ดข้าวจะนำ discontinuities และชอบความไม่สมบูรณ์ในต่อโครงสร้างจุลภาคของซิลิคอน สิ่งสกปรกและบกพร่อง crystallographic ซึ่งจะมีผลสำคัญอิเล็กทรอนิกส์คุณสมบัติเฉพาะของวัสดุ ในระดับที่อุปกรณ์ทำงานบน ข้อบกพร่องเหล่านี้จะมีผลกระทบสำคัญในการทำงานและความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์ ไม่สมบูรณ์แบบผลึก มันจะจริงไปสร้างอุปกรณ์มาก Large-Scale รวม (VLSI) (รูปด้านล่าง), ที่ล้าน (ถึงพันล้าน เซอร์กา 2005[2]) ใช้ทรานซิสเตอร์วงจร ซึ่งทั้งหมดต้องทำงานได้ รวมกันเป็นชิจะได้รับเช่นหน่วยประมวลผล ดังนั้น อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ได้ลงทุนอย่างมากในการผลิตขนาดใหญ่ผลึกเดี่ยวของซิลิคอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปแบบ monocrystalline ถูกนำมาใช้ในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ตั้งแต่ข้าวเขตแดนจะนำมาต่อเนื่องและเป็นที่โปรดปรานความไม่สมบูรณ์ในจุลภาคของซิลิกอนเช่นสิ่งสกปรกและข้อบกพร่อง crystallographic ซึ่งจะมีผลกระทบอย่างมากต่อสมบัติทางอิเล็กทรอนิกส์ของว​​ัสดุในท้องถิ่น ในระดับที่ใช้งานบนอุปกรณ์ที่ไม่สมบูรณ์เหล่านี้จะมีผลกระทบสำคัญต่อการทำงานและความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์ โดยไม่ต้องสมบูรณ์แบบผลึกมันจะเป็นไปไม่ได้จริงในการสร้างบูรณาการขนาดใหญ่มาก (VLSI) อุปกรณ์ (รูปด้านล่าง) ซึ่งในล้าน (ถึงพันล้านประมาณ 2005 [2]) ของวงจรทรานซิสเตอร์ที่ใช้ซึ่งทั้งหมดต้อง ได้อย่างน่าเชื่อถือจะทำงานรวมกันเป็นชิปตัวเดียวที่จะได้รับเช่นไมโครโปรเซสเซอร์ ดังนั้นอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์มีการลงทุนอย่างมากในการอำนวยความสะดวกในการผลิตผลึกเดี่ยวขนาดใหญ่ของซิลิกอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แบบฟอร์ม monocrystalline ถูกใช้ในอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำการผลิตตั้งแต่เขตแดนเมล็ดข้าวจะนำต่อเนื่อง และชอบความไม่สมบูรณ์ในโครงสร้างจุลภาคของซิลิคอน เช่นสิ่งสกปรกและข้อบกพร่องทาง ซึ่งสามารถมีผลกระทบอย่างมีนัยสำคัญต่ออิเล็กทรอนิกส์ คุณสมบัติภายในของวัสดุ ในระดับที่อุปกรณ์ใช้งานบนความไม่สมบูรณ์เหล่านี้จะมีผลกระทบต่อการทำงาน และความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์ ไม่มีความสมบูรณ์ของผลึกก็จะแทบเป็นไปไม่ได้ที่จะสร้างบูรณาการขนาดใหญ่มาก ( ด้วย ) อุปกรณ์ ( รูปด้านล่าง ) ซึ่งในล้านถึงพันล้าน , เกี่ยวกับ 2005 [ 2 ] ) ใช้วงจรทรานซิสเตอร์ ซึ่งทั้งหมดจะต้องเชื่อถือได้ทำงานจะรวมกันเป็นชิปเดียวที่จะได้รับเช่นไมโครโปรเซสเซอร์ ดังนั้น อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ได้ลงทุนอย่างมากในเครื่องผลิตขนาดใหญ่ของผลึกเดี่ยวซิลิคอน