Extreme UV – UV wavelengths down to

Extreme UV – UV wavelengths down to 13 nm
!  Electron-beam lithography – resolutions ~ 10 nm
!  X-ray lithography - resolutions ~ 20 nm
!  Micro-imprint lithography – uses flat mold with desired
pattern that physically deforms resist surface to create
regions that will be etched
!  Nano-imprint lithography – same as micro-imprint but
adapted to nanoscale

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

UV มาก – ความยาวคลื่น UV ลงไป 13 nm
! ลำแสงอิเล็กตรอนภาพพิมพ์หิน – มติ ~ 10 nm
! เอ็กซ์เรย์ภาพพิมพ์หิน - มติ ~ 20 nm
! ต้องไมโคร imprint ภาพพิมพ์หิน – แม่แบนใช้กับ
รูปที่จริง deforms พื้นผิวต่อต้านการสร้าง
ภูมิภาคที่จะแกะสลัก
! lithography imprint นาโนไมโคร-imprint เหมือน แต่
ปรับการ nanoscale

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รังสียูวีมาก - ยูวีความยาวคลื่นลงถึง 13 นาโนเมตร
! ลำแสงอิเล็กตรอนพิมพ์หิน - มติ ~ 10 นาโนเมตร
! เอ็กซ์เรย์พิมพ์หิน - มติ ~ 20 นาโนเมตร
! ไมโครสำนักพิมพ์พิมพ์หิน - ใช้แม่พิมพ์แบนที่ต้องการ
รูปแบบที่ร่างกายต่อต้าน deforms ผิวเพื่อสร้าง
พื้นที่ที่จะถูกฝัง
! นาโนสำนักพิมพ์พิมพ์หิน - เช่นเดียวกับไมโครประทับ แต่
ปรับให้ระดับนาโน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ยูวี UV ความยาวคลื่นมาก–ลง 13 nm
!  ลำแสงอิเล็กตรอนภายใน–มติ ~ 10 nm
!  เอ็กซ์เรย์ภาพยนตร์จีน - มติ ~ 20 nm
! สํานักพิมพ์ ( ใช้แม่พิมพ์รุ่น ไมโครแบนกับรูปแบบทางกายภาพที่ต้องการ
deforms ต่อต้านพื้นผิวเพื่อสร้างภูมิภาคที่จะสลัก

! !  นาโนรุ่นเดียวกับไมโครประทับรอย ) แต่ดัดแปลง nanoscale