Nanoimprinting and nanoscratchingNa

Nanoimprinting and nanoscratching
Nanoimprinting, a 21st century implementation of
Johannes Gutenberg’s printing press, has much to
recommend it. Because large areas can be simultaneously
written, its throughput can be 12 orders of
magnitude higher than for direct-write approaches.
In the example illustrated in figure 3, resist is dispensed
using an ink-jet. (It can also be deposited by
spin coating.) A template, or mold, then shapes the
resist mechanically to create the desired pattern,
which is then transferred to the device layer by etching.
The resolution is limited by the resolution of the
mold, not the photons exposing the resist. Because
the mold is used many times, it can be made by a
slow but high-resolution method. After that, the speed-limiting factor is the brief time it takes to
apply the photoresist

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Nanoimprinting และ nanoscratchingNanoimprinting การดำเนินการของศตวรรษที่ 21 ของแท่นพิมพ์ของโยฮันเนสกูเทนแบร์ก มีแนะนำ เนื่องจากเป็นพื้นที่ขนาดใหญ่พร้อมกันเขียน ปริมาณสามารถสั่งซื้อ 12ขนาดสูงกว่าวิธีการเขียนโดยตรงในตัวอย่างที่แสดงในรูปที่ 3 จ่ายต่อต้านใช้การอิงค์เจ็ท (มันสามารถยังฝากด้วยหมุนเคลือบ) แม่แบบ หรือแม่พิมพ์ แล้วรูปร่างต่อต้านกลไกการสร้างรูปแบบที่ต้องการซึ่งถูกโอนย้ายไปชั้นอุปกรณ์แล้ว โดยการแกะสลักความละเอียดถูกจำกัด โดยความละเอียดของการแม่ ไม่โฟตอนที่ต้านทานการเปิดเผย เนื่องจากแม่พิมพ์ใช้กี่ครั้ง ก็สามารถทำได้โดยการช้าแต่วิธีที่ความละเอียดสูง หลังจากนั้น ปัจจัยจำกัดความเร็วเป็นสั้น ๆ เวลาที่ใช้ในการใช้เท่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Nanoimprinting และ nanoscratching
Nanoimprinting, การดำเนินงานของศตวรรษที่ 21
โยฮันเน Gutenberg กดพิมพ์มีมากที่จะ
แนะนำ เพราะพื้นที่ขนาดใหญ่พร้อมกันสามารถ
เขียนผ่านของมันสามารถ 12 คำสั่งของ
ขนาดสูงกว่าโดยตรงเขียนวิธี.
ในตัวอย่างที่แสดงในรูปที่ 3 ต่อต้านจะจ่าย
โดยใช้อิงค์เจ็ท (นอกจากนี้ยังสามารถนำมาฝากโดย
การเคลือบสปิน.) แม่แบบหรือแม่พิมพ์แล้วรูปร่าง
ต่อต้านกลไกในการสร้างรูปแบบที่ต้องการ
ซึ่งจะโอนไปแล้วชั้นอุปกรณ์โดยการแกะสลัก.
ความละเอียดถูก จำกัด โดยความละเอียดของ
แม่พิมพ์ โฟตอนไม่เปิดเผยต่อต้าน เพราะ
แม่พิมพ์ถูกนำมาใช้หลายครั้งก็สามารถที่จะทำโดย
วิธีการช้า แต่มีความละเอียดสูง หลังจากนั้นปัจจัยความเร็ว จำกัด เป็นเวลาสั้น ๆ ที่ใช้ในการ
ใช้น้ํายาไวแสง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

nanoscratching nanoimprinting และการ nanoimprinting , ศตวรรษที่ 21โรงพิมพ์ของ Johannes Gutenberg , มีมากแนะนำค่ะ เพราะพื้นที่ขนาดใหญ่สามารถไปพร้อมกันเขียน , throughput ของสามารถสั่งซื้อ 12ขนาดสูงกว่าตรงเขียนแนวในตัวอย่างที่แสดงในรูปที่ 3 คือจ่ายต้านทานใช้อิงค์เจ็ท ( มันยังสามารถฝากโดยเคลือบหมุน ) แม่แบบหรือแม่พิมพ์ แล้วรูปร่างต่อต้านการสร้างที่ต้องการรูปแบบซึ่งจะโอนไปยังอุปกรณ์ชั้นโดยการ .ความละเอียดจะถูก จำกัด โดยความละเอียดของแม่พิมพ์ไม่ประกอบด้วยการต่อต้าน เพราะแม่พิมพ์ที่ใช้หลายๆครั้ง มันสามารถทำโดยช้า แต่ความละเอียดสูงโดยวิธี หลังจากนั้น ความเร็วปัจจัยจำกัดคือ สรุปเวลาที่ใช้ในการใช้ระบบ