K Arisa - We've recently adjusted B

K Arisa - We've recently adjusted BP up to improve ATI performance. the tall BP eval is to pull ahead material that will reflect the performance best of the WIP that will move after the wafer level adjustment (we selected chunk with higher 'natural' break point from current wip so the tilting would still get us a decent write width while yielding longer BP).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

K arisa - เราได้ปรับเปลี่ยนเมื่อเร็ว ๆ นี้ bp ขึ้นเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพของ ATI bp สูง Eval คือการดึงไปข้างหน้าวัสดุที่จะสะท้อนให้เห็นถึงประสิทธิภาพการทำงานที่ดีที่สุดของริมฝีปากที่จะย้ายหลังจากปรับระดับเวเฟอร์ (เราเลือกอันที่มีสูงขึ้น 'ธรรมชาติ' จุดหยุดพักจากริมฝีปากปัจจุบันดังนั้นการเอียงจะยังคงรับเราเขียนดี ความกว้างในขณะที่ให้ผลผลิตนาน bp)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อาริสา K - เราได้เพิ่งปรับ BP ขึ้นเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพของ ATI BP สูง eval จะดึงหน้าวัสดุที่จะสะท้อนให้เห็นถึงประสิทธิภาพที่ดีที่สุดของ WIP ที่จะย้ายหลังจากปรับระดับแผ่นเวเฟอร์ (เราเลือกกลุ่ม มีจุดหยุดพัก 'ธรรมชาติ' สูงจาก wip ปัจจุบันเพื่อการเอียงจะยังคงได้รับเรากว้างดีเขียนในขณะที่ผลผลิต BP อีกต่อไป)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

K arisa - เราได้เมื่อไม่นานมานี้ปรับ BP ขึ้นเพื่อปรับปรุง ประสิทธิภาพ การทำงาน ATI .สูง BP eval คือการดึงไปข้างหน้าวัสดุที่จะสะท้อนถึง ประสิทธิภาพ ที่ดีที่สุดของที่ปัดทำความสะอาดที่จะย้ายหลังจากที่เป็นแผ่นบางระดับการปรับ(เราที่เลือกก้อนพร้อมด้วยสูงกว่า'ธรรมชาติ'จุดคุ้มทุนแล้วจากปัจจุบันที่ปัดทำความสะอาดและปรับเอียงก็จะทำให้เราได้เป็นอย่างดีทั้งเขียนความกว้างในขณะที่ผลอีกต่อไป BP ).