where CH2O2 (mM) is the concentrati

where CH2O2 (mM) is the concentration of H2O2, t (min) is treatment time, kH2O2;obs (mM min1 ) is the observed rate constant calculated from the CH2O2 measurements, and k 0 H2O2 is the pseudo-zeroth-order rate constant (k 0 H2O2 ¼ kH2O2 C2 OH, where kH2O2 is the second-order reaction rate constant). Note that Eq. (7) is not technically a heterogeneous rate equation, but rather a homogeneous rate equation
adapted to account for the fraction of the volume in which the reactions actually occur. The strong linear relationship between kH2O2;obs and the plasma area indicates that kH2O2;obs is proportional to A (Fig. 8). The lack of deviation from this linear relationship suggests negligible variation in k 0 H2O2 with changes in A. Due to the quadratic relationship between k 0 H2O2 and COH, the degree of variation in COH must be even lower than in k 0 H2O2 , and thus is also negligible. Because k 0 only varies with COH, k 0 must be independent of the plate size. Therefore, interfacial area is confirmed as the dominant factor influencing the solute removal rate in this system.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ที่ CH2O2 (มม.) ความเข้มข้นของ H2O2, t (min) เป็นการรักษาเวลา kH2O2; obs (mM min1) เป็นค่าคงที่สังเกตอัตราที่คำนวณจากการวัด CH2O2 และ k 0 H2O2 เป็นค่าคงอัตราลำดับกฎข้อที่ศูนย์หลอก (k 0 H2O2 ¼ kH2O2 C2 OH ที่ kH2O2 เป็นค่าคงอัตราของปฏิกิริยาที่สองสั่ง) โปรดสังเกตว่า Eq. (7) ไม่เทคนิคสมการอัตราแตกต่างกัน แต่ค่อนข้างสมการอัตราการเป็นเนื้อเดียวกันปรับการบัญชีสำหรับเศษส่วนของปริมาตรซึ่งปฏิกิริยาที่จะเกิดขึ้น ความสัมพันธ์เชิงเส้นแข็งแรง ระหว่าง kH2O2; obs ตั้งพลาสมาบ่งชี้ว่า kH2O2; obs เป็นสัดส่วนกับ (Fig. 8) ไม่มีความแตกต่างจากความสัมพันธ์เชิงเส้นนี้แนะนำการปรับเปลี่ยนระยะใน k 0 H2O2 กับการเปลี่ยนแปลงในโอกาสความสัมพันธ์กำลังสองระหว่าง k 0 H2O2 และ COH ระดับของการเปลี่ยนแปลงใน COH ต้องต่ำลงกว่าใน k 0 H2O2 และดัง เป็นระยะ เนื่องจาก k 0 เท่านั้นแตกต่างกันไป COH, k 0 ต้องขึ้นอยู่กับขนาดจาน ดังนั้น ตั้ง interfacial ยืนยันเป็นปัจจัยหลักที่มีอิทธิพลต่ออัตราการกำจัดตัวในระบบนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ที่ CH2O2 (mm) คือความเข้มข้นของ H2O2 ที่ตัน (นาที) เป็นเวลาที่รักษา kH2O2; obs (มิลลิ min1) จะคงอัตราสังเกตคำนวณจากการวัด CH2O2 และ k 0 H2O2 เป็นหลอกข้อที่ศูนย์สั่งคงอัตรา (k 0 H2O2 ¼ kH2O2 C2 OH ที่ kH2O2 เป็นครั้งที่สองสั่งปฏิกิริยาอัตราคงที่) โปรดทราบว่าสมการ (7) ไม่ได้ในทางเทคนิคสมการอัตราที่แตกต่างกัน
แต่เป็นสมการที่เป็นเนื้อเดียวกันอัตราการปรับตัวให้เข้าบัญชีสำหรับส่วนของปริมาณที่ปฏิกิริยาเกิดขึ้นจริงได้ ความสัมพันธ์เชิงเส้นที่แข็งแกร่งระหว่าง kH2O2; obs และพื้นที่พลาสม่าระบุว่า kH2O2; obs เป็นสัดส่วนถึง A (รูปที่ 8). การขาดของการเบี่ยงเบนจากความสัมพันธ์เชิงเส้นนี้แสดงให้เห็นการเปลี่ยนแปลงเล็กน้อยใน k 0 H2O2 กับการเปลี่ยนแปลงใน A. เนื่องจากความสัมพันธ์ระหว่างสม k 0 H2O2 COH และระดับของการเปลี่ยนแปลงใน COH จะต้องต่ำกว่าใน k 0 H2O2 และทำให้ นอกจากนี้ยังมีน้อยมาก เพราะ k 0 เพียงแตกต่างกันกับ COH, k 0 ต้องเป็นอิสระที่มีขนาดแผ่น ดังนั้นพื้นที่ interfacial ได้รับการยืนยันว่าเป็นปัจจัยสำคัญที่มีอิทธิพลต่ออัตราการกำจัดตัวละลายในระบบนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ที่ C ( มม. ) มีความเข้มข้นของ H2O2 , T ( มิน ) คือเวลา kh2o2 รักษา ด้าน ( มม. min1 ) และค่าคงที่อัตราที่คำนวณจากการวัดและ C , K 0 H2O2 คือ zeroth เทียมเพื่ออัตราคงที่ ( K 0 H2O2 ¼ kh2o2 C2 โอ้ที่ kh2o2 เป็นปฏิกิริยาอันดับที่สอง อัตราคงที่ ) หมายเหตุว่า อีคิว ( 7 ) จริงๆ แล้วมันไม่ใช่สมการอัตราต่างกัน ,แต่แทนที่จะเป็นสมการเอกพันธ์
ปรับบัญชีอัตราส่วนของปริมาณที่ได้เกิดขึ้นจริง ที่แข็งแกร่งความสัมพันธ์เชิงเส้นระหว่าง kh2o2 ; ด้านและพื้นที่พลาสมาพบว่า kh2o2 ; ด้านเป็นสัดส่วนกับ ( รูปที่ 8 ) การเบี่ยงเบนจากความสัมพันธ์เชิงเส้นนี้แสดงให้เห็นการเปลี่ยนแปลงเล็กน้อยใน K 0 H2O2 ที่มีการเปลี่ยนแปลง .เนื่องจากความสัมพันธ์กำลังสองระหว่าง k 0 H2O2 และ CoH , ระดับของการเปลี่ยนแปลงใน CoH คงจะน้อยกว่า H2O2 k 0 , และดังนั้นจึงยังกระจอก เพราะ K 0 เท่านั้นขึ้นอยู่กับ CoH , K 0 จะต้องเป็นอิสระของแผ่นขนาด ดังนั้น พื้นที่ระหว่างการยืนยันเป็นเด่นปัจจัยที่มีอิทธิพลต่ออัตราการกำจัดสารละลายในระบบนี้