Fig. 2 shows the images for samples

Fig. 2 shows the images for samples deposited with an applied voltage of 275 V and plasma gas flow rates from 30 to 60 slm. It is shown that with a 30 slm gas flow rate, a dense and uniform film is obtained with a film thickness approximately
115 nm.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Fig. 2 แสดงภาพตัวอย่างฝากแรง 275 V ที่ใช้กับพลาสม่าแก๊ส flow ราคา 30 กับ 60 slm มันแสดงให้เห็นว่า กับ 30 slm แก๊ส flow อัตรา film หนาแน่น และสม่ำเสมอจะได้ มีความหนา film ประมาณ115 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มะเดื่อ 2 แสดงให้เห็นภาพตัวอย่างฝากไว้กับแรงดันไฟฟ้าประยุกต์ของ 275 V และก๊าซพลาสม่าชั้นโอ๊ยอัตรา 30-60 SLM มันเป็นเรื่องที่แสดงให้เห็นว่ามี 30 SLM ก๊าซอัตราโอ๊ยชั้น LM Fi หนาแน่นและสม่ำเสมอจะได้รับกับไฟหนา LM ประมาณ
115 นาโนเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 2 แสดงภาพตัวอย่างที่ฝากไว้กับความต่างศักย์ 275 V และพลาสมาflแก๊สโอ๊ยอัตราจาก 30 ถึง 60 SLM . มันแสดงให้เห็นว่า มี 30 SLM flแก๊สโอ๊ยอัตราหนาแน่นและเครื่องแบบจึงถ่ายได้ด้วยจึง LM หนาประมาณ
115 nm .