The substrates were rotated at the

The substrates were rotated at the rate of 200-300 rpm for 9 s and later at 2000-3000 rpm for 30 s. After one coating, the precursor film was pyrolysized at about 200
C for 30 s to remove the solvent and a small amount of water.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พื้นผิวถูกหมุนในอัตรา 200-300 rpm สำหรับ 9 s และภายหลังที่ 2000-3000 rpm 30 s หลังจากเคลือบหนึ่ง ฟิล์มสารตั้งต้นเป็น pyrolysized ประมาณ 200 c เป็นเวลา 30 s เอาตัวทำละลายและน้ำเล็กน้อย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พื้นผิวที่กำลังหมุนในอัตรา 200-300 รอบต่อนาที 9 วินาทีและต่อมาที่ 2000-3000 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 30 ฯ หลังจากหนึ่งเคลือบฟิล์มสารตั้งต้นที่ถูก pyrolysized ที่ประมาณ 200 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 30 วินาทีที่จะเอาตัวทำละลายและจำนวนเงินขนาดเล็กของน้ำ