Two other recent developments are a

Two other recent developments are also discussed; variable field magnetrons and duplex production processes. In all PVD processes, ion bombardment of the growing film is a critical parameter which strongly influences the structure and properties of the growing film [10] and [11].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สองการพัฒนาอื่น ๆ ที่กล่าวถึงยัง; magnetrons สนามตัวแปรและกระบวนการผลิตเพล็กซ์ ในกระบวนการ PVD ​​ทั้งหมดระดมยิงไอออนของภาพยนตร์ที่เพิ่มขึ้นเป็นพารามิเตอร์ที่สำคัญที่มีอิทธิพลอย่างยิ่งโครงสร้างและคุณสมบัติของฟิล์มที่เพิ่มขึ้น [10] และ [11]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พัฒนาล่าสุดสองอื่น ๆ นอกจากนี้ยังได้กล่าวถึง magnetrons ฟิลด์ตัวแปรและกระบวนการผลิตหน้า ในทุกกระบวน PVD ระดมยิงไอออนของฟิล์มเติบโตเป็นพารามิเตอร์สำคัญที่ขอมีผลต่อโครงสร้างและคุณสมบัติของฟิล์มเติบโต [10] [11]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การพัฒนาล่าสุดอื่นๆทั้งสองจะกล่าวถึงขั้นตอนการผลิตกระดาษและ magnetrons ปรับเปลี่ยนฟิลด์ยัง ในกระบวนการทั้งหมดไปทิ้งระเบิดไอออนของ ภาพยนตร์ ที่เติบโตเป็นพารามิเตอร์ที่มีความสำคัญอย่างยิ่งซึ่งมีอิทธิพลต่อคุณสมบัติและโครงสร้างของการเติบโต ภาพยนตร์ [ 10 ]และ[ 11 ]