In order to solve the problems and

In order to solve the problems and deficiencies of
extant research, the designed cell structure of the
capacitive micromachined ultrasonic transducer is
shown in Fig. 1(a). This structure includes the silicon
substrate doped heavily for the formation of the
bottom electrode and the cavity is formed by etching
the silicon substrate. The bottom of this cavity is an
insulation layer which can ensure electrical insulation
between the top and bottom electrodes, and prevent
short circuiting caused by the occasional engagement
of the top and bottom electrode; the top of the cavity
is the integration membrane made by SOI top silicon.
When the sensor is operating in water, in order to
avoid the hydrolysis caused by a strong electric field
in the cavity, the vibration must be a vacuum-sealed
cavity. The top and bottom electrodes are deposited
on the membrane and substrate respectively.
Meanwhile, a MEMS capacitive ultrasonic transducer
is composed of many cells which are connected
parallel and distributed in a certain order

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เพื่อแก้ปัญหาและทรงของวิจัยยัง เซลล์ออกแบบโครงสร้างของการมีพิกัดควบคุม micromachined อัลตราโซนิกแสดงใน Fig. 1(a) ซิลิคอนมีโครงสร้างนี้doped อย่างมากสำหรับการก่อตัวของพื้นผิวไฟฟ้าด้านล่างและช่องจะเกิดขึ้น โดยการแกะสลักกับพื้นผิวซิลิกอน ด้านล่างของช่องนี้เป็นการชั้นฉนวนกันความร้อนซึ่งสามารถทำให้ฉนวนไฟฟ้าระหว่างหุงตด้านบนและด้านล่าง และป้องกันcircuiting สั้นเกิดจากความผูกพันเป็นครั้งคราวของไฟฟ้าบนและล่าง ด้านบนของช่องเป็นเมมเบรนรวมทำ ด้วยซิลิคอนสุดซอยเมื่อการปฏิบัติในน้ำ เซนเซอร์เพื่อหลีกเลี่ยงไฮโตรไลซ์เกิดจากสนามไฟฟ้าแรงในโพรง การสั่นสะเทือนต้องเป็น vacuum-sealedโพรง ฝากหุงตด้านบนและด้านล่างบนพื้นผิวเมมเบรนตามลำดับในขณะเดียวกัน เป็น MEMS ควบคุมอัลตราโซนิกพิกัดประกอบด้วยเซลล์จำนวนมากที่เชื่อมต่อแบบขนาน และแบบกระจายในใบสั่ง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เพื่อที่จะแก้ปัญหาและข้อบกพร่องของ
การวิจัยที่ยังหลงเหลือโครงสร้างออกแบบเซลล์ของ
transducer ล้ำเสียง capacitive micromachined จะ
แสดงในรูป 1 (ก) โครงสร้างนี้ประกอบด้วยซิลิคอน
ตั้งต้นเจืออย่างหนักสำหรับการก่อตัวของ
อิเล็กโทรดด้านล่างและช่องเป็นรูปแกะสลัก
พื้นผิวซิลิกอน ด้านล่างของช่องนี้คือ
ชั้นฉนวนกันความร้อนซึ่งสามารถมั่นใจได้ว่าฉนวนไฟฟ้า
ระหว่างขั้วไฟฟ้าบนและด้านล่างและป้องกันไม่ให้เกิด
ไฟฟ้าลัดวงจรที่เกิดจากการมีส่วนร่วมเป็นครั้งคราว
ของด้านบนและด้านล่างขั้ว; ด้านบนของช่อง
เป็นเมมเบรนบูรณาการที่ทำโดยซิลิกอนบนซ.
เมื่อเซ็นเซอร์มีการดำเนินงานอยู่ในน้ำเพื่อที่จะ
หลีกเลี่ยงการย่อยสลายที่เกิดจากสนามไฟฟ้าที่แข็งแกร่ง
ในช่องการสั่นสะเทือนจะต้องเป็นสูญญากาศปิดผนึก
ช่อง ขั้วไฟฟ้าบนและด้านล่างจะฝาก
ในเยื่อหุ้มเซลล์และสารตั้งต้นตามลำดับ.
ในขณะเดียวกัน transducer ล้ำเสียง MEMS capacitive
ประกอบด้วยเซลล์จำนวนมากที่มีการเชื่อมต่อ
แบบขนานและกระจายอยู่ในลำดับที่แน่นอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการแก้ไขปัญหาและข้อบกพร่องของ
วิจัยเท่าที่มีอยู่ , ออกแบบโครงสร้างของเซลล์ micromachined Ultrasonic Transducer เป็น

capacitive ที่แสดงในรูปที่ 1 ( a ) โครงสร้างนี้มีฐานรองซิลิคอน
เจืออย่างหนักเพื่อการก่อตัวของ
ขั้วด้านล่างและโพรงที่เกิดจากการกัดซิลิคอน
. ด้านล่างของโพรงนี้เป็น
ชั้นฉนวนที่สามารถตรวจสอบฉนวนไฟฟ้า
ระหว่างขั้วไฟฟ้าที่ด้านบนและด้านล่าง และป้องกัน
circuiting สั้นเกิดจากเป็นครั้งคราวหมั้น
ของด้านบนและด้านล่าง ) ; ด้านบนของช่อง
เป็นการบูรณาการเมมเบรนโดยซอยด้านบน ซิลิคอน
เมื่อเซนเซอร์เป็นปฏิบัติการในน้ำเพื่อ
หลีกเลี่ยงการย่อยสลายเกิดจาก
สนามไฟฟ้าที่แข็งแกร่งในโพรงการสั่นสะเทือนต้องสูญญากาศปิดผนึก
โพรง ขั้วไฟฟ้าที่ด้านบนและด้านล่างจะฝาก
บนเยื่อแผ่นตามลำดับ
ในขณะเดียวกัน , MEMS capacitive ultrasonic transducer
ประกอบด้วยเซลล์จำนวนมากที่เชื่อมต่อกัน
แบบขนานและกระจายอยู่ในลำดับที่แน่นอน