Generally,many inorganicmetal oxide

Generally,many inorganicmetal oxides, such as silica, zeolite, alumina,
zirconia, ZnO, clay, and others, can be used as supports for chiral
SAMs. In this paper we extend our research and demonstrate the basic
principle of this type of chiral hybrid surface for other chemical systems.
We decided to use Al2O3 monolayers to form protective layers on the
chiral SAMs, mainly because the atomic layer deposition synthesis of
Al2O3 does not require high temperature processing that could harm
the chiral SAMs. Various growth techniques can be applied to synthesize
ceramic nanolayers on chiral SAMs such as vacuum-based methods
including chemical vapor deposition (CVD) and metal organic CVD
(MOCVD), or chemical solution methods including sol–gel, electrochemical
deposition, and hydrothermal synthesis. However, in this work we utilize the atomic layer deposition (ALD) technique [23,24]
since it provides excellent thickness control and produces very dense
and uniform layers.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยทั่วไปออกไซด์ inorganicmetal เป็นจำนวนมากเช่นซิลิกาซีโอไลท์, อลูมินา
เซอร์โคเนีย, ซิงค์ออกไซด์, ดิน, และคนอื่น ๆ ที่สามารถใช้เป็นที่รองรับสำหรับ chiral
SAMs ในบทความนี้เราขยายการวิจัยของเราแสดงให้เห็นถึงพื้นฐาน
หลักการของชนิดของพื้นผิว chiral ไฮบริดสำหรับระบบสารเคมีอื่น ๆ .
เราตัดสินใจที่จะใช้ monolayers Al2O3 ที่จะสร้างชั้นป้องกัน
chiral SAMs ส่วนใหญ่เป็นเพราะชั้นอะตอมสังเคราะห์สะสมของ
Al2O3 ไม่ จำเป็นต้องมีการประมวลผลที่มีอุณหภูมิสูงที่อาจเป็นอันตรายต่อ
chiral SAMs เทคนิคการเจริญเติบโตต่างๆสามารถนำมาใช้ในการสังเคราะห์
nanolayers เซรามิก SAMs chiral เช่นวิธีการสูญญากาศที่ใช้
รวมทั้งสารเคมีที่สะสมไอ (CVD) และโลหะ CVD อินทรีย์
(MOCVD) หรือวิธีการแก้ปัญหาสารเคมีรวมทั้งโซลเจล, ไฟฟ้า
การสะสมและการสังเคราะห์ร้อน แต่ในงานนี้เราใช้การสะสมชั้นอะตอม (มรกต) เทคนิค [23,24]
เนื่องจากมีการควบคุมที่ดีเยี่ยมและความหนาผลิตหนาแน่นมาก
ชั้นและสม่ำเสมอ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โดยทั่วไป , ออกไซด์ inorganicmetal มากมาย เช่น ซิลิกา , ซีโอไลท์ อะ
Zirconia , ZnO , ดิน , และคนอื่น ๆ , สามารถใช้เป็นสนับสนุนสำหรับ chiral
แซม . ในกระดาษนี้เราขยายการวิจัยของเราและแสดงให้เห็นถึงหลักการพื้นฐานของชนิดของพื้นผิว
1 ลูกผสมระบบเคมีอื่น ๆ .
เราตัดสินใจใช้ Al2O3 monolayers เพื่อสร้างชั้นป้องกันบน
Sams 1 ,ส่วนใหญ่เป็นเพราะการสะสมชั้นอะตอมการสังเคราะห์
Al2O3 ไม่ต้องใช้อุณหภูมิสูงในการประมวลผลที่อาจเป็นอันตรายต่อ Sams 1
. การพัฒนาเทคนิคต่าง ๆ สามารถใช้เพื่อสังเคราะห์
nanolayers เซรามิกใน Sams จวนตัวเช่นเครื่องดูดฝุ่นตามวิธีการ
รวมทั้ง chemical vapor deposition ( CVD ) และ
CVD อินทรีย์โลหะ ( mocvd ) หรือสารละลายเคมีรวมทั้งวิธีการโซลเจลไฟฟ้า
) ,สะสม , และการสังเคราะห์ไฮโดรเทอร์มอล . อย่างไรก็ตาม ในงานนี้เราใช้สะสมชั้นอะตอม ( ald ) เทคนิค [ 23,24 ]
เนื่องจากมีการควบคุมความหนาที่ยอดเยี่ยมและสร้างความหนาแน่นมาก
และชั้นเหมือนกัน