UV exposure and film developing—the

UV exposure and film developing—the three major steps of a typical photolithography process (for details, refer to the information offered by the commercial supplier of the photoresist and the resource at Cornell NanoScale Science & Technology Facility).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รังสีและการพัฒนาฟิล์ม — สามหลักขั้นตอนของกระบวนการ photolithography ทั่วไป (รายละเอียด หมายถึงข้อมูลที่นำเสนอ โดยผู้จำหน่าย photoresist การและทรัพยากรที่ Cornell NanoScale วิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีสิ่งอำนวยความสะดวกทางการค้า)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สัมผัสรังสียูวีและภาพยนตร์การพัฒนาที่สามขั้นตอนที่สำคัญของกระบวนการ photolithography ทั่วไป (สำหรับรายละเอียดโปรดดูที่ข้อมูลที่นำเสนอโดยผู้ผลิตในเชิงพาณิชย์ของสารไวแสงและทรัพยากรที่ Cornell นาโนวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีสิ่งอำนวยความสะดวก)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แสงยูวีและภาพยนตร์การพัฒนา 3 ขั้นตอนหลักของกระบวนการโฟโตลิโทกราฟีโดยทั่วไป ( รายละเอียดดูที่ข้อมูลที่นำเสนอโดยผู้ผลิตเชิงพาณิชย์ของระบบและทรัพยากรที่ Cornell วิทยาศาสตร์&เทคโนโลยีสิ่งอำนวยความสะดวก )