An important fact regarding the use

An important fact regarding the use of tungsten electrode for
voltammetric H+ and OH measurement is that tungsten offers
the ability of easy electrochemical cleaning. Namely, in the H+ concentration
range 0.1–1  102 mol dm3, H2 evolution takes place
at the potentials where only metallic tungsten is thermodynamically
stable [41] and thus the tungsten surface is expected to be
free of oxides, especially if described safety measures are undertaken
(Section 3.1). In addition, experiments performed on B type
of electrodes confirmed, in accordance with both the discussion given
earlier and the described electrode pretreatment, that linearity
and reproducibility of the results presented in Fig. 1 are not affected
by prior surface electrochemical oxidation. As the diffusion
currents are determined only by geometrical cross-section, surface
roughness is irrelevant for accurate measurements. This allows the
use of W electrode without any particular preparation procedure
for voltammetry of H2 evolution. In alkaline solutions, measurements
are based on the rate of anodic dissolution of tungsten.
These reactions are fast, and under hydrodynamic conditions oxide
is quickly removed from the surface, leaving W disk clean during
the operation. Yet again, as limiting diffusion currents are being
measured, only geometrical cross-section is relevant parameter.
In this case, application of W disk for OH measurement does
not require any particular preparation procedure, too.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความจริงที่สำคัญเกี่ยวกับการใช้อิเล็กโทรดทังสเตนสำหรับวัด voltammetric H + และ OH เป็นทังสเตนมีความสามารถของการทำความสะอาดไฟฟ้าง่าย คือ ในสมาธิ H +ในช่วง 0.1 – 1 10 2 โมล dm 3, H2 วิวัฒนาการเกิดขึ้นที่ศักยภาพเท่าโลหะทังสเตน thermodynamicallyมั่นคง [41] และทำ ผิวทังสเตนจะคาดว่าจะฟรีของออกไซด์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งถ้ามีดำเนินมาตรการความปลอดภัยที่อธิบายไว้(ส่วน 3.1) นอกจากนี้ ทดลองดำเนินการในประเภท Bยืนยันของหุงต ตามทั้งการสนทนาให้ก่อนหน้า และอิเล็กโทรดอธิบาย pretreatment แบบดอกไม้ที่และจะไม่ได้รับผลกระทบ reproducibility ผลแสดง Fig. 1โดยสนิมพื้นผิวทางเคมีไฟฟ้าก่อน เป็นที่แพร่กระแสจะพิจารณาระหว่างส่วน geometrical ผิวความหยาบโดยการวัดความถูกต้อง นี้ช่วยให้การใช้ไฟฟ้า W ไม่มีขั้นตอนการเตรียมการใด ๆสำหรับ voltammetry ของวิวัฒนาการ H2 ในด่างโซลูชั่น วัดจะขึ้นอยู่กับอัตราของทังสเตน anodic ยุบปฏิกิริยาเหล่านี้ได้อย่างรวดเร็ว และภาย ใต้เงื่อนไข hydrodynamic ออกไซด์อย่างรวดเร็วออกจากพื้นผิว ออกจากดิสก์ W สะอาดระหว่างการดำเนินงาน อีกครั้ง มีการจำกัดกระแสแพร่วัด ระหว่างส่วน geometrical เฉพาะเป็นพารามิเตอร์ที่เกี่ยวข้องในกรณีนี้ แอพลิเคชันของดิสก์ W สำหรับประเมิน OH ไม่ไม่ต้องมีกระบวนการเตรียมการ เกินไป

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความจริงที่สำคัญเกี่ยวกับการใช้ไฟฟ้าทังสเตนสำหรับ
voltammetric H + และ OH? วัดคือทังสเตนมี
ความสามารถในการทำความสะอาดไฟฟ้าง่าย กล่าวคือในความเข้มข้นของ H +
ช่วง 0.1-1? 10? 2 โมล DM 3 วิวัฒนาการ H2 จะเกิดขึ้น
ในศักยภาพที่ทังสเตนโลหะเพียงอย่างเดียวคือ thermodynamically
มั่นคง [41] และทำให้พื้นผิวทังสเตนคาดว่าจะเป็น
ฟรีออกไซด์โดยเฉพาะอย่างยิ่งถ้าอธิบายมาตรการด้านความปลอดภัยจะดำเนินการ
(มาตรา 3.1) นอกจากนี้การทดลองดำเนินการกับชนิด B
ขั้วยืนยันตามที่มีทั้งการอภิปรายที่ได้รับ
ก่อนหน้านี้และการปรับสภาพขั้วอธิบายที่เป็นเส้นตรง
และความแม่นยำของผลที่นำเสนอในรูป 1 จะไม่ได้รับผลกระทบ
จากพื้นผิวก่อนออกซิเดชั่ไฟฟ้า ในขณะที่การกระจาย
กระแสจะถูกกำหนดโดยเฉพาะเรขาคณิตตัดพื้นผิว
หยาบกร้านไม่เกี่ยวข้องสำหรับการวัดที่ถูกต้อง นี้จะช่วยให้
การใช้งานของอิเล็กโทรด W โดยไม่มีขั้นตอนการเตรียมการใด ๆ โดยเฉพาะอย่างยิ่ง
สำหรับ Voltammetry ของวิวัฒนาการ H2 ในการแก้ปัญหาด่างวัด
จะขึ้นอยู่กับอัตราการสลายตัวขั้วบวกของทังสเตน.
ปฏิกิริยาเหล่านี้ได้อย่างรวดเร็วและภายใต้เงื่อนไขอุทกพลศาสตร์ออกไซด์
จะถูกลบออกได้อย่างรวดเร็วจากพื้นผิวออก W ทำความสะอาดดิสก์ในระหว่าง
การดำเนินการ อีกครั้งการ จำกัด กระแสแพร่มีการ
วัดเรขาคณิตเพียงตัดเป็นพารามิเตอร์ที่เกี่ยวข้อง.
ในกรณีนี้การประยุกต์ใช้ดิสก์ W สำหรับ OH? วัดไม่
จำเป็นต้องมีขั้นตอนการเตรียมการใด ๆ โดยเฉพาะอีกด้วย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ที่สำคัญเกี่ยวกับการใช้ลวดทังสเตนสำหรับ
มาก H และโอ  การวัดเป็นทังสเตน มีความสามารถในการทำความสะอาดออกง่าย
. คือในช่วงความเข้มข้น 0.1 – H
1  10  2 mol dm  3 วิวัฒนาการ H2 เกิดขึ้น
ที่ศักยภาพที่โลหะทังสเตนเป็น thermodynamically
มั่นคง [ 41 ] และทำให้พื้นผิวทังสเตนซึ่งเป็นออกไซด์ของ
ฟรี ,โดยเฉพาะอย่างยิ่งถ้าอธิบายมาตรการความปลอดภัยมีปัญหา
( ส่วนที่ 1 ) นอกจากนี้ในการทดลองในชนิด B
อิ ยืนยันสอดคล้องกับทั้งการอภิปรายให้เร็วขึ้น และการอธิบายขั้ว

ที่เป็นเส้นตรง และตรวจสอบผลที่แสดงในรูปที่ 1 จะไม่ได้รับผลกระทบ โดยก่อน
ผิวไฟฟ้าออกซิเดชัน เป็นกระจาย
กระแสมุ่งมั่นเท่านั้น โดยทางเรขาคณิตภาพตัดขวาง ความขรุขระของผิว
ไม่เกี่ยวข้องเพื่อการวัดที่แม่นยำ นี้จะช่วยให้ใช้ไฟฟ้าได้โดยไม่ต้องใด ๆ
w
สำหรับแสงยูวีเฉพาะการเตรียมขั้นตอนของวิวัฒนาการ H2 . เป็นโซลูชั่นในการวัด
จะขึ้นอยู่กับอัตราการละลายของการของทังสเตน .
ปฏิกิริยาเหล่านี้อย่างรวดเร็ว และภายใต้เงื่อนไขออกไซด์
อุทกพลศาสตร์จะถูกลบออกได้อย่างรวดเร็วจากพื้นผิวออกจาก W
ดิสก์ทำความสะอาดในระหว่างการผ่าตัด อีกอย่างการจำกัดกระแสแพร่ถูก
วัดเฉพาะเรขาคณิตภาพตัดขวางเป็นพารามิเตอร์ที่เกี่ยวข้อง
ในกรณีนี้การใช้ดิสก์สำหรับโอการวัดไม่  w
ไม่ต้องมีขั้นตอน การเตรียมการใด ๆ ด้วย