Fig. 3 shows the effect of H2O2 concentration on TOC removal by the simultaneous nZVI/H2O2 process. When H2O2 was applied with nZVI, the TOC removal efficiency improved. Specifically, the TOC removal efficiencies of the simultaneous nZVI/H2O2 process were 8, 18, 39, and 34% when H2O2 was added at concentrations of 100, 150, 200, and 250 mg/L, respectively, after 60 min.
The TOC removal efficiency increased as the H2O2 concentration increased; however, when the H2O2 concentration increased above 200 mg/L, the TOC removal efficiency began to decrease. According to the literature, typical values of Fenton reagent ratio are in the range between 1:5 and 1:25 [5].
The optimal operating parameters for Orange II degradation by nZVI/H2O2 process established on the basis of TOC measurements are nZVI/ H2O2=1:16.5, nZVI=200 mg/L (0.357mM), pH 3, where maximal TOC removal of 39% was achieved. At higher hydrogen peroxide concentrations, an inert oxidative film on the nZVI surface may have
been created, disabling further leaching of the Fe2+ ions [1]. This effect was partially associated with the scavenging nature of H2O2 toward OH radicals when it was applied in excess.
มะเดื่อ 3 แสดงให้เห็นถึงผลกระทบของ H2O2 ความเข้มข้นการกำจัด toc โดยพร้อมกัน nzvi/h2o2 กระบวนการ เมื่อ H2O2 ถูกนำมาใช้กับ nzvi, ประสิทธิภาพในการกำจัด toc ดีขึ้น โดยเฉพาะการกำจัดของ toc พร้อมกัน nzvi/h2o2 กระบวนการอายุได้ 8, 18, 39, และ 34% เมื่อ H2O2 ถูกบันทึกที่ความเข้มข้น 100, 150, 200, และ 250 มก. / ล. ตามลำดับหลังจาก 60 นาที
ประสิทธิภาพในการกำจัด toc เพิ่มขึ้นตามความเข้มข้นของ H2O2 เพิ่มขึ้น แต่เมื่อความเข้มข้นที่เพิ่มขึ้นดังกล่าวข้างต้น H2O2 200 mg / l, ประสิทธิภาพในการกำจัด toc เริ่มลดลง ตามวรรณคดีค่าโดยทั่วไปอัตราส่วนของสารเฟนตันที่อยู่ในช่วง 1:05-01:25 [5].
พารามิเตอร์ปฏิบัติการที่เหมาะสมสำหรับการย่อยสลายสีส้ม ii โดย nzvi/h2o2 กระบวนการก่อตั้งขึ้นบนพื้นฐานของการวัด toc เป็น nzvi / H2O2 = 1:16.5, nzvi = 200 mg / l (0.357mm) 3 Ph ที่กำจัด toc สูงสุด 39% ก็ประสบความสำเร็จ ที่ระดับความเข้มข้นสูงกว่าไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์, ฟิล์ม oxidative เฉื่อยบนพื้นผิว nzvi อาจมี
ถูกสร้างขึ้นปิดการใช้งานต่อการชะล้างของไอออน FE2 [1]ผลกระทบนี้มีความสัมพันธ์บางส่วนกับธรรมชาติการขับของ H2O2 ต่ออนุมูล OH เมื่อมันถูกนำมาใช้ในส่วนที่เกิน
การแปล กรุณารอสักครู่..

Fig. 3 แสดงผลของความเข้มข้นของ H2O2 ใน TOC กำจัดโดยกระบวนการ nZVI/H2O2 พร้อม เมื่อใช้ H2O2 กับ nZVI, TOC เอาประสิทธิภาพดีขึ้น โดยเฉพาะ ประสิทธิภาพเอาสารบัญของการ nZVI/H2O2 พร้อมกันได้ 8, 18, 39, 34% และเมื่อ H2O2 เพิ่มที่ความเข้มข้น 100, 150, 200, 250 mg/L และ ตามลำดับหลังจาก 60 นาที
เพิ่มประสิทธิภาพการกำจัด TOC เป็น H2O2 ที่ความเข้มข้นที่เพิ่มขึ้น อย่างไรก็ตาม เมื่อความเข้มข้นของ H2O2 เพิ่มขึ้นสูงกว่า 200 mg/L ประสิทธิภาพเอาสารบัญเริ่มลดลง ตามวรรณคดี Fenton รีเอเจนต์อัตราค่าปกติอยู่ในช่วงระหว่าง 1:5 ถึง 1:25 [5]
พารามิเตอร์ปฏิบัติเหมาะสมที่สุดสำหรับส้ม II ลดกระบวนการ nZVI/H2O2 ที่ก่อตั้งขึ้น โดยวัด TOC จะ nZVI / H2O2 = 1:16.5, nZVI = 200 mg/L (0.357 mM), ค่า pH 3 ที่เอาสารบัญสูงสุด 39% สำเร็จ อาจจะมีฟิล์ม oxidative inert บนพื้นผิวของ nZVI ที่ความเข้มข้นไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์สูง
รับสร้าง ปิดละลายเพิ่มเติม ของประจุ Fe2 [1] ลักษณะพิเศษนี้มีบางส่วนเกี่ยวข้องกับธรรมชาติ scavenging ของ H2O2 ต่ออนุมูล OH เมื่อใช้เกินขนาด
การแปล กรุณารอสักครู่..
