the ion-to-atom ratio at the substr

the ion-to-atom ratio at the substrate,
can be varied at any stage of the deposition process,
or even continuously throughout the deposition process.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อัตราส่วนของไอออนกับอะตอมที่พื้นผิว สามารถแตกต่างกันในขั้นตอนใด ๆ ของกระบวนการสะสม หรือแม้กระทั่งอย่างต่อเนื่องตลอดทั้งกระบวนการสะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อัตราส่วนไอออนเพื่ออะตอมที่พื้นผิว
จะมีการเปลี่ยนแปลงในขั้นตอนของกระบวนการสะสมใด ๆ
หรือแม้กระทั่งการอย่างต่อเนื่องตลอดทั้งกระบวนการสะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

กับอะตอมไอออนอัตราส่วนที่หลากหลายสามารถที่แตกต่างกันในขั้นตอนใดของกระบวนการสะสม ,หรือแม้แต่อย่างต่อเนื่องตลอดกระบวนการการ