Hole transportmolecule (spiro-OMeTA

Hole transportmolecule (spiro-OMeTAD) was dissolved in chloroben-zene (200 mg mL−1), by heating and stirring the solutionat 80◦C for 30 min. Optimized doping concentrationsof Lithium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide salt (Li-TSFI) dissolved in acetonitrile (170 mg mL−1) and4-tert-Butylpyridine (tBp) are 1:19.3 and 1:40.8 in vol-ume ratio respectively. These optimum ratios weredetermined by fine tuning the doping concentration withrespect to that used in the literature, the ratio that yieldedthe highest conductivity for the hole transport layer waschosen. 40 L doped solution was deposited onto eachfilm at room temperature and left for 1 min before spincoating at 3500 RPM for 20 s in air. After spin coating,the films were kept for 24 h in air. 50 nm of gold followedby 50 nm of silver were deposited by thermal evapora-tion to complete the device structure. 50 nm silver wasused mainly to save the amount of Au used. The devicearea, as defined by the overlap between the ITO and Agelectrodes, was 8.6 mm2.2.2

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รู transportmolecule (spiro OMeTAD) ละลายใน chloroben-zene (mL−1 200 mg) โดยความร้อน และกวน 80◦C solutionat 30 นาที concentrationsof ยาสลบเหมาะลิเธียม bis เกลือ imide (trifluoromethylsulfonyl) (หลี่ TSFI) ละลายใน acetonitrile (170 mg mL−1) and4-tert-Butylpyridine (tBp) คือ 1:19.3 และ 1:40.8 ในอัตราส่วน vol-บ๊วยตามลำดับ Weredetermined เหล่านี้อัตราส่วนที่เหมาะสม โดยปรับละเอียด withrespect ความเข้มข้นของยาสลบที่ใช้ในวรรณคดี อัตราส่วนการนำไฟฟ้าสูงสุดที่ yieldedthe สำหรับหลุมขนส่งชั้น waschosen ฝากแก้ปัญหา 40 ลิตรเจือลงบน eachfilm ที่อุณหภูมิห้องและซ้าย 1 นาทีก่อน spincoating ที่ 3500 รอบต่อนาที 20 s ในอากาศ หลังจากหมุนเคลือบ ภาพยนตร์ถูกเก็บไว้ใน 24 h ในอากาศ 50 nm ของ followedby ทอง 50 nm ของเงินฝากไว้ โดยความร้อน evapora-มมือทำโครงสร้างอุปกรณ์ wasused nm เงิน 50 ส่วนใหญ่จะบันทึกจำนวนของ Au ที่ใช้ Devicearea กำหนด โดยทับซ้อนระหว่าง ITO และ Agelectrodes, 8.6 mm2.2.2 เป็น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลุม transportmolecule (Spiro-OMeTAD) ถูกละลายใน chloroben-น้า (200 มก. ML-1) โดยให้ความร้อนและกวน80◦C solutionat เป็นเวลา 30 นาที ยาสลบ Optimized concentrationsof ลิเธียมทวิ (trifluoromethylsulfonyl) imide เกลือ (Li-TSFI) ละลายใน acetonitrile (170 มก. ML-1) and4-tert-Butylpyridine (TBP) เป็น 1: 19.3 และ 1: 40.8 อัตราส่วนฉบับ-Ume ตามลำดับ อัตราส่วนที่เหมาะสมเหล่านี้ weredetermined โดยปรับจูนความเข้มข้นยาสลบ withrespect กับที่ใช้ในวรรณคดีอัตราส่วนที่ yieldedthe การนำสูงสุดชั้น waschosen ขนส่งหลุม 40 วิธีการแก้ปัญหา L เจือถูกวางลงบน eachfilm ที่อุณหภูมิห้องและที่เหลือเป็นเวลา 1 นาทีก่อน spincoating ที่ 3500 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 20 ในอากาศ หลังจากเคลือบหมุนภาพยนตร์ที่ถูกเก็บไว้เป็นเวลา 24 ชั่วโมงในอากาศ 50 นิวตันเมตรทอง followedby 50 นาโนเมตรของเงินฝากโดยความร้อน evapora-การให้เสร็จสมบูรณ์โครงสร้างอุปกรณ์ 50 เงินนาโนเมตร wasused ส่วนใหญ่จะบันทึกจำนวนของ Au ที่ใช้ devicearea ตามที่กำหนดโดยที่ทับซ้อนกันระหว่าง ITO และ Agelectrodes ที่เป็น 8.6 mm2.2.2

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

transportmolecule หลุม ( โร ometad ) ละลายใน chloroben เซเน่ ( 200 มิลลิกรัม ml − 1 ) โดยความร้อนและเร้าใจ solutionat 80 ◦ C เป็นเวลา 30 นาที ซึ่งปริมาณยาสลบลิเธียมทวิ ( trifluoromethylsulfonyl ) กิจกรรมเกลือ ( หลี่ tsfi ) ละลายใน ไน ( 170 มิลลิกรัมต่อมิลลิลิตร− 1 ) 4 tert butylpyridine ( tbp ) 1:19.3 และ ในอัตราส่วน 1:40.8 อุเมะ vol ตามลำดับ เหล่านี้ที่เหมาะสมทั้งต่อ โดยปรับความเข้มข้นในสารต้องห้ามที่ใช้ในวรรณคดี อัตราส่วนสูงสุดที่ yieldedthe ไฟฟ้าสำหรับหลุมที่ transport layer waschosen . 40 ลิตร ด้วยโซลูชั่นฝากลง eachfilm ที่อุณหภูมิห้องทิ้งไว้ 1 นาทีก่อนที่จะ spincoating ที่ 3500 รอบต่อนาทีเป็นเวลา 20 วินาทีในอากาศ หลังจากเคลือบหมุนฟิล์มไว้ตลอด 24 ชั่วโมง ในอากาศ 50 nm ทองรองลงมาคือ 50 nm ของเงินฝาก โดยผ่าน evapora ความร้อนเพื่อให้โครงสร้างอุปกรณ์ 50 nm เงินใช้ส่วนใหญ่บันทึกปริมาณหรือใช้ การ devicearea ตามที่กําหนดโดยซ้อนระหว่าง ITO และ agelectrodes , 8.6 mm2.2.2