The most common form of sputtering

The most common form of sputtering is plasma-based sputtering
where a plasma is present and positive ions are accelerated to the target
which is at a negative potential with respect to the plasma

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปแบบที่พบมากที่สุดของสปัตเตอร์เป็นพลาสม่าที่ใช้
สปัตเตอร์ที่พลาสม่าเป็นไอออนบวกในปัจจุบันและกำลังเร่งให้
เป้าหมายซึ่งเป็นที่ที่มีศักยภาพเชิงลบเกี่ยวกับพลาสม่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แบบทั่วไปของการพ่นจะใช้พลาสม่าพ่น
พลาสมามีอยู่ และกันจะเร่งไปเป้าหมายที่
ซึ่งเป็นศักยภาพเชิงลบเกี่ยวกับสม่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปแบบที่ใช้กันมากที่สุดของละล่ำละลักคือจอพลาสม่าใช้ละล่ำละลัก
ซึ่งพลาสม่าที่มีอยู่และเพิ่มพลังไอออนในเชิงบวกคือเร่งตัวขึ้นไปยังเป้าหมาย
ซึ่งอยู่ที่มี ศักยภาพ ด้านลบที่มีต่อพลาสมาที่