In this review, we have chosen to f

In this review, we have chosen to focus on the differences in process conditions as well as resulting thin film characteristics between HiPIMS and commonly used industrial PVD techniques, such as direct current magnetron sputtering (DCMS), radio frequency (RF) magnetron sputtering, and cathodic arc evaporation. The aim has been to provide a good introduction to this novel technique for PVD process engineers and researchers on thin films,who are familiar with the sputtering basics, without any claims on completely covering the whole field of HiPIMS.More details on the fundamentals and applications of
HiPIMS can be found in the review articles by Helmersson et al.Sarakinos et al.and Anders.Furthermore, it should also be brought to the readers’ attention that parts
of the current review concerning thin film processing are based on a recent review paper by Sarakinos et al. Moreover, in this work, much attention has been paid to different industrially relevant material systems owing to the fact that they are after all the ultimate goal of any thin film deposition process.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในบทความนี้ เราได้เลือกที่จะเน้นความแตกต่างในเงื่อนไขกระบวนการผลลัพธ์ film บางลักษณะระหว่าง HiPIMS และใช้เทคนิค PVD อุตสาหกรรม เช่น magnetron กระแสตรง (DCMS) พ่น พ่น magnetron คลื่นความถี่วิทยุ (RF) และ cathodic อาร์คระเหย จุดมุ่งหมายที่ได้ให้คำแนะนำดีเทคนิคนี้นวนิยาย PVD การวิศวกรและนักวิจัยของบาง films คนคุ้นเคยกับพื้นฐาน sputtering ไม่เรียกร้องใด ๆ บนสมบูรณ์ครอบคลุม field ทั้งของ HiPIMS.More บนพื้นฐานและโปรแกรมประยุกต์ของ
HiPIMS สามารถพบได้ในบทความรีวิวโดย Helmersson et alSarakinos et al.and Anders.Furthermore นอกจากนี้ควรจะนำความสนใจของผู้อ่านที่ส่วน
ของตรวจทานปัจจุบัน เกี่ยวกับประมวลผลบาง film ยึดเอกสารทบทวนล่าสุดโดย Sarakinos et al นอก ในงานนี้ ความสนใจมากมีการชำระเงินต่าง ๆ ระบบวัสดุ industrially เกี่ยวข้องเพราะความจริงที่ว่า พวกเขาเป็นหลังจากที่ทุกเป้าหมายสูงสุดของกระบวนการสะสมใด ๆ film บาง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในการทบทวนนี้เราได้เลือกที่จะมุ่งเน้นไปที่ความแตกต่างในสภาพกระบวนการเช่นเดียวกับที่ทำให้เกิดลักษณะฟิล์มบาง ๆ ระหว่าง HiPIMS และเทคนิคที่ใช้กันทั่วไป PVD อุตสาหกรรมเช่นโดยตรงแมกสปัตเตอร์ปัจจุบัน (DCMS) คลื่นความถี่วิทยุ (RF) ที่สปัตเตอร์แมกและ การระเหยโค้ง cathodic จุดมุ่งหมายที่ได้รับเพื่อให้การแนะนำที่ดีในเทคนิคใหม่นี้สำหรับวิศวกรกระบวนการ PVD และนักวิจัยบนแผ่นฟิล์มบางที่มีความคุ้นเคยกับพื้นฐานสปัตเตอร์โดยไม่ต้องเรียกร้องใด ๆ ที่สมบูรณ์ครอบคลุมทั้งสนาม HiPIMS.More รายละเอียดเกี่ยวกับปัจจัยพื้นฐานและการใช้งาน ของ
HiPIMS สามารถพบได้ในบทความที่ทบทวนโดย Helmersson และรหัส al.Sarakinos และรหัส al.and Anders.Furthermore ก็ควรที่จะมาถึงความสนใจของผู้อ่านว่าบางส่วน
ของการตรวจสอบเกี่ยวกับการประมวลผลในปัจจุบันฟิล์มบางจะขึ้นอยู่กับกระดาษความคิดเห็นที่ผ่านมา โดย Sarakinos ตอัล นอกจากนี้ในงานนี้ความสนใจมากได้รับการจ่ายให้กับระบบอุตสาหกรรมวัสดุที่เกี่ยวข้องที่แตกต่างกันเนื่องจากความจริงที่ว่าพวกเขาจะหลังจากที่ทุกเป้าหมายสูงสุดของกระบวนการสะสมฟิล์มบาง ๆ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในบทความนี้เราได้เลือกที่จะมุ่งเน้นไปที่ความแตกต่างของเงื่อนไขกระบวนการเช่นเดียวกับที่เกิดบางจึง LM ลักษณะระหว่าง hipims และใช้กันทั่วไปในอุตสาหกรรม PVD เทคนิค เช่น แมกนีตรอนสปัตเตอร์ไฟฟ้ากระแสตรง ( dcms ) ความถี่วิทยุ ( RF ) แมกนีตรอนสปัตเตอริงและ Cathodic Arc การระเหยเป้าหมายได้ถูกให้คำแนะนำเทคนิคนี้ใหม่สำหรับวิศวกรกระบวนการ PVD และนักวิจัยในจึงบาง LMS ที่คุ้นเคยกับพื้นฐานทำงานโดยไม่ต้องเรียกร้องใด ๆที่สมบูรณ์ครอบคลุมทั้งหมดของ hipims จึงละมั่ง รายละเอียดเพิ่มเติมเกี่ยวกับพื้นฐานและการประยุกต์ใช้งาน
hipims สามารถพบได้ในบทความ helmersson รีวิว et al . sarakinos et al.and แอนเดอร์ส นอกจากนี้ก็ควรที่จะนำผู้อ่านที่สนใจชิ้นส่วน
ของการทบทวนปัจจุบันที่เกี่ยวข้องกับการประมวลผล LM จึงผอมจะขึ้นอยู่กับการตรวจสอบล่าสุดกระดาษโดย sarakinos et al . นอกจากนี้ ในงานนี้ได้รับความสนใจอย่างมาก จ่ายให้แตกต่างกันเชิงอุตสาหกรรมวัสดุที่เกี่ยวข้องระบบเนื่องจากความจริงที่ว่าพวกเขาเป็นหลังจากที่ทุกเป้าหมายสูงสุดของบางใด ๆจึง LM กระบวนการสะสม .