taken from the XRD patterns of Fig.

taken from the XRD patterns of Fig. 4(b) and 4(c) that are annealed for 1 h at 500 °C and 600 °C, respectively

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

นำมาจากรูปแบบ XRD ของรูป 4(b) และ 4(c) ที่อบสำหรับ h ที่ 500 ° C และ 600 ° C, 1 ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

นำมาจากรูปแบบ XRD ของรูป และ 4 (ข) 4 (C) ที่มีการอบเป็นเวลา 1 ชั่วโมงที่ 500 ° C และ 600 ° C ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ถ่ายจาก XRD รูปแบบรูป 4 ( b ) และ ( c ) ที่อบเป็นเวลา 1 ชั่วโมง ที่ 500 ° C และ 600 องศา C ตามลำดับ