The bucky papers were then exposed

The bucky papers were then exposed to a plasma environment within the Vacutech RIE system using either SF6 at 20 sscm flow rate or CF4 at 40 sccm flow rate as the plasma gas. The samples were exposed to the plasma for 1 min at different bias voltages to determine the effect of bias on the subsequent bonding of fluorine to the SWNTs. The chemical attachments were investigated by X-ray Photoelectron spectroscopy2 (XPS) using a monochromatic Al(Kα)=1486.6 eV source. The F1s peaks have also been studied with emphasis on the binding energy, using XPS Peak software whereby subtraction of a linear background is performed and Gaussian curves are fitted to the measured data. Attention has been paid to the relative concentrations of fluorine to carbon and oxygen to carbon and after subtraction of a linear background and with use of AlWagner coefficients in the Avantage data system, both 2 days after the initial functionalisation and also after 4 weeks. The AlWagner coefficients are used to limit any possible atomic percentage errors which may occur due to the sample preparation and positioning in the XPS equipment.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เอกสาร bucky ได้แล้วสัมผัสกับสิ่งแวดล้อมพลาสมาภายในระบบ Vacutech RIE ใช้ SF6 เป็นที่อัตราการไหล sscm 20 หรือ CF4 ที่อัตราการไหลของ sccm 40 เป็นก๊าซพลาสม่า ตัวอย่างได้สัมผัสกับพลาสมาใน 1 นาทีที่แรงดันตั้งแตกต่างกันเพื่อดูผลของความโน้มเอียงการติดยึดฟลูออรีนกับ SWNTs ตามมา แนบเคมีถูกตรวจสอบ โดยเอ็กซ์เรย์ Photoelectron spectroscopy2 (XPS) ใช้การยังอัล (Kα) = 1486.6 eV แหล่ง ยังได้เรียนแห่ง F1s กับพลังงานยึดเหนี่ยว การใช้ซอฟต์แวร์สูงสุด XPS โดยดำเนินการลบพื้นหลังเส้น และเส้นโค้ง Gaussian เพียบข้อมูลวัด ความสนใจมีการชำระความเข้มข้นที่ญาติของฟลูออรีนคาร์บอนและออกซิเจนคาร์บอน และหลัง จากการลบพื้นหลังเส้น และ มีการใช้สัมประสิทธิ์ AlWagner ในระบบข้อมูล Avantage ทั้ง 2 วันหลัง จาก functionalisation แรก และหลัง จาก 4 สัปดาห์นอกจากนี้ยัง ใช้สัมประสิทธิ์ AlWagner การจำกัดข้อผิดพลาดใด ๆ อะตอมเปอร์เซ็นต์เป็นไปได้ที่อาจเกิดขึ้นเนื่องจากการเตรียมตัวอย่างและการวางตำแหน่งอุปกรณ์ XPS

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เอกสารบัคกี้ได้สัมผัสแล้วจะมีสภาพแวดล้อมที่พลาสม่าในระบบ Vacutech ริเอะโดยใช้ SF6 ที่ 20 SSCM อัตราการไหลหรือ CF4 ที่ 40 SCCM อัตราการไหลของก๊าซพลาสมา กลุ่มตัวอย่างที่ได้สัมผัสกับพลาสม่าเป็นเวลา 1 นาทีที่แรงดันไฟฟ้าอคติที่แตกต่างกันเพื่อตรวจสอบผลกระทบของการมีอคติในการยึดเกาะที่ตามมาของฟลูออรีนที่จะ SWNTs สิ่งที่แนบมาถูกตรวจสอบทางเคมีโดยการเอ็กซ์เรย์ไฟฟ้าจากแสง spectroscopy2 (XPS) โดยใช้อัลเดียว (Kα) = แหล่ง eV 1,486.6 ยอด F1s ยังได้รับการศึกษาที่มีความสำคัญในการใช้พลังงานที่มีผลผูกพันโดยใช้ซอฟแวร์ยอด XPS โดยการลบพื้นหลังเชิงเส้นที่จะดำเนินการและเส้นโค้งเสียนจะติดตั้งกับข้อมูลที่วัดได้ ความสนใจที่ได้รับการจ่ายให้กับความเข้มข้นของญาติของฟลูออรีนคาร์บอนและออกซิเจนคาร์บอนและหลังการลบพื้นหลังเชิงเส้นและมีการใช้ค่าสัมประสิทธิ์ AlWagner ใน Avantage ระบบข้อมูลทั้ง 2 วันหลังจากที่ functionalisation เริ่มต้นและหลังจาก 4 สัปดาห์ ค่าสัมประสิทธิ์ AlWagner จะใช้ในการ จำกัด การข้อผิดพลาดร้อยละอะตอมใด ๆ ที่เป็นไปได้ที่อาจเกิดขึ้นเนื่องจากการเตรียมตัวและการวางตำแหน่งในอุปกรณ์ XPS

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พิมพ์ลงไปแล้วสัมผัสกับสภาพแวดล้อมภายในระบบพลาสม่าที่ใช้ทั้งริเอะ vacutech SF6 ที่ 20 sscm อัตราการไหลหรือ CF4 40 sccm อัตราการไหลเป็นพลาสมาแก๊ส ตัวอย่างที่สัมผัสกับพลาสมา 1 นาทีที่มีอคติที่แตกต่างกันเพื่อตรวจสอบผลกระทบของอคติต่อเชื่อมต่อมาของฟลูออรีนกับ swnts .สารเคมีที่แนบได้โดยเครื่อง X-ray photoelectron spectroscopy2 ( XPS ) ใช้สําหรับ อัล ( K α ) = 1486.6 EV แหล่ง ที่ยอดมีไก่ไข่ นอกจากนี้ได้ศึกษา โดยเน้นการใช้พลังงาน , XPS ซอฟต์แวร์สูงสุดโดยการลบพื้นหลังเป็นเส้นตรงและเส้นโค้ง Gaussian จะดําเนินการติดตั้งเพื่อวัดข้อมูลความสนใจได้รับการชำระเงินเพื่อความเข้มข้นสัมพัทธ์ของฟลูออรีนกับ คาร์บอน กับ ออกซิเจน คาร์บอน และหลังจากการลบพื้นหลังเส้นและใช้ alwagner สัมประสิทธิ์ใน Avantage ระบบข้อมูล ทั้ง 2 วัน หลังจากการเริ่มต้นและหลังจาก 4 สัปดาห์การ alwagner ) ใช้เพื่อ จำกัด ใด ๆที่เป็นไปได้ของข้อผิดพลาดที่อาจเกิดขึ้นเนื่องจากจำนวนตัวอย่างการเตรียมและตำแหน่งใน XPS อุปกรณ์