The procedure of this method was de

The procedure of this method was described by Chung (1974).
The error
margin of this method is approximately 10%.
Morphological and microchemical analyses were
carried out using a LEO VP-1431 scanning electron
microscope with an energy dispersive X-ray spectrometer
(SEM-EDX). Before the SEM analysis, samples were coated
with a thin film (thickness: 25 nm) of gold using a sputter
coater to make the sample conductive.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขั้นตอนของวิธีการนี้ถูกอธิบาย โดยชุ (1974)ข้อผิดพลาดขอบของวิธีนี้คือ ประมาณ 10%วิเคราะห์สัณฐาน และ microchemical ได้ดำเนินการโดยใช้อิเล็กตรอนแบบสแกนวีลีโอ-1431กล้องจุลทรรศน์ มีการพลังงาน dispersive เอกซเรย์สเปกโตรมิเตอร์(เรื่อง) ได้เคลือบตัวอย่างก่อนการวิเคราะห์ SEMฟิล์มบาง ๆ (หนา: 25 nm) ใช้ sputter เป็นทองคำcoater ทำอย่างการไฟฟ้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขั้นตอนของวิธีนี้ก็อธิบายโดยจุง (1974).
ข้อผิดพลาดที่อัตรากำไรขั้นต้นของวิธีการนี้จะอยู่ที่ประมาณ 10%. ทางสัณฐานวิทยาและการวิเคราะห์ microchemical ถูกดำเนินการโดยใช้อิเล็กตรอนแบบส่องกราดLEO VP-1431 กล้องจุลทรรศน์ที่มีการกระจายพลังงานสเปกโตรมิเตอร์เอ็กซ์เรย์(SEM -EDX) ก่อนที่จะมีการวิเคราะห์ SEM ตัวอย่างถูกเคลือบด้วยฟิล์มบาง(หนา 25 นาโนเมตร) ทองใช้ปะทุCoater เพื่อให้ตัวอย่างเป็นสื่อกระแสไฟฟ้า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขั้นตอนของวิธีนี้คือการอธิบายโดยชุง ( 1974 )

ขอบของข้อผิดพลาดของวิธีการนี้คือประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์ และวิเคราะห์ข้อมูลทาง microchemical

โดยใช้ราศีสิงห์ vp-1431 กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนที่มีพลังงานกระจายตัว X-ray Spectrometer

( sem-edx ) ก่อนการวิเคราะห์ SEM จำนวนเคลือบ
ด้วยฟิล์มบาง ( ความหนา : 25 nm ) ทองใช้ละล่ำละลัก
เคลือบเพื่อให้ตัวอย่างที่สามารถ .